אפיון של שכבות דקות מורכבות שהוכנו על ידי התזה מגנטרונית ריאקטיבית

התזה מגנטרונית ריאקטיבית פירושה אספקת גז ריאקטיבי להגיב עם חלקיקים שהתזה בתהליך ההתזה ליצירת סרט מורכב. היא יכולה לספק גז ריאקטיבי להגיב עם מטרת התרכובת המתזה בו זמנית, ויכולה גם לספק גז ריאקטיבי להגיב עם מטרת המתכת או הסגסוגת המתזה בו זמנית כדי להכין סרט מורכב עם יחס כימי נתון. המאפיינים של התזה מגנטרונית ריאקטיבית להכנת סרטים מורכבים הם:

(1) חומרי המטרה המשמשים להתזה מגנטרונית ריאקטיבית (מטרה בעלת אלמנט יחיד או מטרה מרובת אלמנטים) וגזי תגובה הם בעלי טוהר גבוה בקלות, דבר התורם להכנת סרטי תרכובת בעלי טוהר גבוה.

(2) בהתזה מגנטרונית ריאקטיבית, על ידי התאמת פרמטרי תהליך השיקוע, ניתן להכין יחס כימי או יחס לא כימי של סרטים מורכבים, על מנת להשיג את המטרה של ויסות מאפייני הסרט על ידי התאמת הרכב הסרט.

(3) טמפרטורת המצע בדרך כלל אינה גבוהה מדי במהלך תהליך ההפקדה של ריסוס מגנטרון ריאקטיבי, ותהליך יצירת הסרט בדרך כלל אינו דורש חימום של המצע לטמפרטורות גבוהות מאוד, כך שיש פחות הגבלות על חומר המצע.

(4) התזה באמצעות מגנטרון ריאקטיבי מתאימה להכנת שכבות דקות הומוגניות בעלות שטח גדול, ויכולה להשיג ייצור מתועש עם תפוקה שנתית של מיליון מטרים רבועים של ציפוי ממכונה אחת. במקרים רבים, ניתן לשנות את אופי הסרט פשוט על ידי שינוי היחס בין גז ריאקטיבי לגז אינרטי במהלך ההתזה. לדוגמה, ניתן לשנות את הסרט ממתכת למוליך למחצה או ללא מתכת.

——מאמר זה מכיליצרן מכונות ציפוי ואקוםגואנגדונג ז'נהואה שוחרר