1. Ionenbeam-assistearre ôfsetting brûkt benammen leech-enerzjy-ionenstralen om te helpen by oerflakmodifikaasje fan materialen.
(1) Eigenskippen fan ion-assistearre ôfsetting
Tidens it coatingproses wurde de ôfsette filmdieltsjes kontinu bombardearre troch laden ioanen fan 'e ioanboarne op it oerflak fan it substraat, wylst se bedekt wurde mei laden ioanstrielen.
(2) De rol fan ion-assistearre ôfsetting
Hege-enerzjy-ionen bombardearje de los bûne filmdieltsjes op elk momint; Troch enerzjy oer te dragen krije de ôfsette dieltsjes gruttere kinetyske enerzjy, wêrtroch't de wet fan kearnfoarming en groei ferbetteret; Produsearje op elk momint in komprimaasje-effekt op it membraanweefsel, wêrtroch't de film tichter groeit; As reaktive gasionen ynjektearre wurde, kin in stoichiometryske gearstalde laach foarme wurde op it oerflak fan it materiaal, en is der gjin ynterface tusken de gearstalde laach en it substraat.
2. Ionboarne foar ionbeam-assistearre ôfsetting
It skaaimerk fan ionbeam-assistearre ôfsetting is dat de filmlaachatomen (ôfsettingsdieltsjes) kontinu bombardearre wurde troch leech-enerzjy-ionen fan 'e ionboarne op it oerflak fan it substraat, wêrtroch't de filmstruktuer tige ticht is en de prestaasjes fan 'e filmlaach ferbettere wurde. De enerzjy E fan 'e ionbeam is ≤ 500 eV. Faak brûkte ionboarnen omfetsje: Kauffman-ionboarne, Hall-ionboarne, anodelaach-ionboarne, holle kathode Hall-ionboarne, radiofrekwinsje-ionboarne, ensfh.
Pleatsingstiid: 30 juny 2023