Magnetroi erreaktibo bidezko sputteringak esan nahi du gas erreaktiboa hornitzen dela sputtering prozesuan sputtering bidezko partikulekin erreakzionatzeko eta konposatu-film bat sortzeko. Gas erreaktiboa eman dezake sputtering-eko konposatu-helburuarekin erreakzionatzeko aldi berean, eta gas erreaktiboa ere eman dezake sputtering-eko metal edo aleazio-helburuarekin erreakzionatzeko aldi berean, proportzio kimiko jakin batekin konposatu-film bat prestatzeko. Konposatu-filmak prestatzeko magnetroi erreaktiboaren sputtering-aren ezaugarriak hauek dira:
(1) Magnetroi erreaktiboen sputtering-erako erabiltzen diren helburu-materialak (elementu bakarreko helburua edo elementu anitzeko helburua) eta erreakzio-gasak erraz lortzen dira purutasun handikoak, eta hori lagungarria da purutasun handiko konposatu-filmak prestatzeko.
(2) Magnetroi erreaktibo bidezko sputtering-ean, deposizio-prozesuaren parametroak doituz, konposatu-filmen erlazio kimikoa edo ez-kimikoa prestatu daiteke, filmaren konposizioa doituz filmaren ezaugarriak erregulatzeko helburua lortzeko.
(3) Substratuaren tenperatura ez da normalean oso altua izaten magnetron erreaktibo bidezko sputtering prozesuan zehar, eta filma eratzeko prozesuak ez du normalean substratua tenperatura oso altuetara berotzea eskatzen, beraz, substratuaren materialari buruzko murrizketa gutxiago daude.
(4) Magnetroi erreaktiboaren bidezko sputtering-a egokia da azalera handiko film mehe homogeneoak prestatzeko, eta urtean milioi bat metro koadroko estaldura-ekoizpenarekin ekoizpen industrializatua lor dezake makina bakar batetik. Kasu askotan, filmaren izaera alda daiteke gas erreaktiboaren eta gas geldoaren arteko erlazioa aldatuz sputtering-ean zehar. Adibidez, filma metalezkoa izatetik erdieroale edo ez-metalikora alda daiteke.
——Artikulu honek daukahutsean estaltzeko makina fabrikatzaileaGuangdong Zhenhua kaleratu zuten
Argitaratze data: 2023ko abuztuaren 31a