Reaktiivne magnetronpihustamine tähendab, et reaktiivgaasi juhitakse pihustamise käigus pihustatud osakestega reageerimiseks, et moodustada ühendkile. See võib samaaegselt anda reaktiivgaasi reageerimiseks pihustatava ühendsihtmärgiga ja samal ajal anda reaktiivgaasi reageerimiseks pihustatava metalli või sulami sihtmärgiga, et moodustada etteantud keemilise suhtega ühendkile. Reaktiivse magnetronpihustamise omadused ühendkilede valmistamiseks on järgmised:
(1) Reaktiivse magnetroni pihustamise sihtmärgimaterjalid (üheelemendilised või mitmeelemendilised sihtmärgid) ja reaktsioonigaasid on kergesti kõrge puhtusastmega, mis soodustab kõrge puhtusastmega ühendkilede valmistamist.
(2) Reaktiivse magnetroni pihustamisel saab sadestamisprotsessi parameetreid reguleerides valmistada ühendkilede keemilist või mittekeemilist suhet, et saavutada kile omaduste reguleerimise eesmärk kile koostise reguleerimise teel.
(3) Substraadi temperatuur ei ole reaktiivse magnetroni pihustamise sadestamise protsessi ajal üldiselt liiga kõrge ja kile moodustamise protsess ei nõua tavaliselt substraadi kuumutamist väga kõrge temperatuurini, seega on substraadi materjalile vähem piiranguid.
(4) Reaktiivne magnetronpihustamine sobib suurte pindadega homogeensete õhukeste kilede valmistamiseks ning selle abil saab tööstuslikult toota ühe masinaga miljon ruutmeetrit katet aastas. Paljudel juhtudel saab kile olemust muuta lihtsalt reaktiivgaasi ja inertse gaasi suhte muutmisega pihustamise ajal. Näiteks saab kile muuta metallist pooljuhiks või mittemetalliks.
——Selles artiklis onvaakumkatmismasinate tootjaGuangdongi Zhenhua vabastati
Postituse aeg: 31. august 2023