ZHCVD1200

El equipo utiliza principalmente la deposición química de vapor para preparar la película de óxido, que se caracteriza por una rápida velocidad de deposición y una alta calidad de película. La estructura del equipo incluye una puerta doble para mejorar la eficiencia de sujeción, y el sistema de suministro de gas líquido de última generación garantiza un flujo estable y controlable, garantizando así la estabilidad del proceso. La película preparada presenta una buena barrera al vapor de agua y un periodo de estabilidad más prolongado en la prueba de ebullición.
El equipo se puede aplicar a acero inoxidable, piezas de hardware/plástico galvanizadas, vidrio, cerámica y otros materiales, como productos electrónicos, bombillas LED, suministros médicos y otros productos que requieren resistencia a la oxidación. La película de barrera de SiOx está diseñada principalmente para bloquear eficazmente el vapor de agua, prevenir la corrosión y la oxidación, y prolongar la vida útil del producto.