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Chemische Gasphasenabscheidung
Epitaktisches Wachstum, oft auch einfach Epitaxie genannt, ist eines der wichtigsten Verfahren zur Herstellung von Halbleitermaterialien und -bauelementen. Bei diesem sogenannten epitaktischen Wachstum wird unter bestimmten Bedingungen eine einzelne Schicht eines Produktfilms auf einem Einkristallsubstrat abgeschieden.Mehr lesen -
Arten der CVD-Technologie
Im Allgemeinen lässt sich die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) grob in zwei Typen unterteilen: Zum einen die Dampfabscheidung eines einzelnen Produkts auf einem Substrat, also die Abscheidung einer einkristallinen Epitaxieschicht (im engeren Sinne); zum anderen die Abscheidung dünner Schichten auf einem Substrat, einschließlich Mehrkomponenten- und amorpher Schichten.Mehr lesen -
Transmissions- und Reflexionsspektren und Farbe optischer Dünnschichten Kapitel 2
Daraus ergibt sich Folgendes: (1) Bei Dünnschichtbauelementen besteht ein Zusammenhang zwischen Transmissions- und Reflexionsspektren sowie der Farbe, also einem Farbspektrum. Dieser Zusammenhang ist jedoch nicht eindeutig, sondern manifestiert sich als Farbspektrum. Daher ist der Film...Mehr lesen -
Transmissions- und Reflexionsspektren und Farbe optischer Dünnschichten Kapitel 1
Transmissions- und Reflexionsspektren sowie die Farben optischer Dünnschichten sind zwei gleichzeitig auftretende Eigenschaften von Dünnschichtbauelementen. 1. Das Transmissions- und Reflexionsspektrum beschreibt den Zusammenhang zwischen Reflexion und Transmission optischer Dünnschichtbauelemente und der Wellenlänge. Es ist …Mehr lesen -
AF Dünnschichtverdampfungsanlage für optische PVD-Vakuumbeschichtung
Die optische PVD-Vakuumbeschichtungsanlage von AF Thin Film Evaporation dient der Beschichtung mobiler Geräte mit Dünnschichten mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD). Dabei wird in einer Beschichtungskammer ein Vakuum erzeugt, in dem Feststoffe verdampft und anschließend abgeschieden werden.Mehr lesen -
Aluminium-Silber-Vakuumbeschichtungs-Spiegelherstellungsmaschine
Die Vakuumbeschichtungsanlage für Aluminiumsilber hat die Spiegelherstellungsindustrie mit ihrer fortschrittlichen Technologie und präzisen Konstruktion revolutioniert. Diese hochmoderne Anlage ist darauf ausgelegt, eine dünne Aluminiumsilberschicht auf die Glasoberfläche aufzutragen und so hochwertige Spiegel zu erzeugen.Mehr lesen -
Optische Vakuumbeschichtungsanlage
Die optische Vakuummetallisierungsanlage ist eine hochmoderne Technologie, die die Oberflächenbeschichtungsindustrie revolutioniert hat. Diese fortschrittliche Maschine nutzt ein Verfahren namens optische Vakuummetallisierung, um eine dünne Metallschicht auf verschiedene Substrate aufzubringen und so eine hochreflektierende und widerstandsfähige Oberfläche zu erzeugen.Mehr lesen -
Plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung Kapitel 2
Die meisten chemischen Elemente lassen sich durch Verbindung mit chemischen Gruppen verdampfen, z. B. reagiert Silicium mit Wasserstoff zu SiH₄ und Aluminium mit Methan zu Al(CH₃). Im thermischen CVD-Verfahren absorbieren die genannten Gase beim Durchströmen des erhitzten Substrats eine bestimmte Menge an Wärmeenergie und bilden...Mehr lesen -
Plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung Kapitel 1
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD). Wie der Name schon sagt, handelt es sich um ein Verfahren, bei dem gasförmige Vorläuferreaktanten durch atomare und intermolekulare chemische Reaktionen zu festen Schichten umgesetzt werden. Im Gegensatz zur PVD wird die CVD meist unter höherem Druck (niedrigerem Vakuum) durchgeführt.Mehr lesen -
Prozesselemente und Wirkungsmechanismen, die die Qualität von Dünnschichtbauelementen beeinflussen (Teil 2)
3. Einfluss der Substrattemperatur Die Substrattemperatur ist eine wichtige Voraussetzung für das Membranwachstum. Sie liefert den Membranatomen bzw. -molekülen zusätzliche Energie und beeinflusst maßgeblich die Membranstruktur, den Agglutinationskoeffizienten, den Expansionskoeffizienten und die Aggregation.Mehr lesen -
Prozessfaktoren und Mechanismen, die die Qualität von Dünnschichtbauelementen beeinflussen (Teil 1)
Die Herstellung optischer Dünnschichtbauelemente erfolgt in einer Vakuumkammer, wobei das Wachstum der Schicht ein mikroskopischer Prozess ist. Derzeit lassen sich jedoch nur einige makroskopische Faktoren direkt beeinflussen, die indirekt mit der Qualität zusammenhängen.Mehr lesen -
Einführung in die Entwicklungsgeschichte der Verdampfungstechnologie
Das Verfahren, bei dem feste Materialien in einer Hochvakuumumgebung erhitzt werden, um sie zu sublimieren oder zu verdampfen und anschließend auf einem spezifischen Substrat abzuscheiden, um einen Dünnfilm zu erhalten, wird als Vakuumverdampfungsbeschichtung (kurz: Verdampfungsbeschichtung) bezeichnet. Die Geschichte der Herstellung von Dünnfilmen durch Vakuumverdampfung…Mehr lesen -
Einführung in die ITO-Beschichtung
Indiumzinnoxid (ITO) ist ein Halbleitermaterial mit großer Bandlücke, hoher Dotierung vom n-Typ, hoher Lichtdurchlässigkeit im sichtbaren Bereich und niedrigem spezifischem Widerstand. Daher findet es breite Anwendung in Solarzellen, Flachbildschirmen, elektrochromen Fenstern sowie anorganischen und organischen Materialien.Mehr lesen -
Vakuum-Schleuderbeschichtungsanlage für Laborzwecke
Vakuum-Spin-Coater sind wichtige Werkzeuge im Bereich der Dünnschichtabscheidung und Oberflächenmodifizierung. Diese hochentwickelten Geräte dienen der präzisen und gleichmäßigen Aufbringung dünner Schichten verschiedenster Materialien auf Substrate. Das Verfahren beinhaltet das Aufbringen einer flüssigen Lösung oder Suspension…Mehr lesen -
Ionenstrahlunterstützter Abscheidungsmodus und seine Energieauswahl
Es gibt zwei Hauptmodi der ionenstrahlgestützten Abscheidung: den dynamischen und den statischen Hybridmodus. Beim dynamischen Hybridmodus wird der Film während des Wachstumsprozesses stets von einer bestimmten Ionenenergie und einem bestimmten Ionenstrahlstrom begleitet; beim statischen Hybridmodus wird der Film vorab auf der Oberfläche abgeschieden.Mehr lesen
