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Notizia
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Deposizione chimica da fase vapore
La crescita epitassiale, spesso detta anche epitassia, è uno dei processi più importanti nella fabbricazione di materiali e dispositivi semiconduttori. La cosiddetta crescita epitassiale consiste, in determinate condizioni, nella crescita di uno strato di un singolo film di prodotto su un substrato monocristallino, attraverso un processo di crescita di un singolo prodotto...Per saperne di più -
Tipologie di tecnologia CVD
In linea generale, la CVD può essere approssimativamente suddivisa in due tipi: uno è la deposizione in fase vapore di un singolo prodotto su un substrato di uno strato epitassiale monocristallino, che in senso stretto è CVD; l'altro è la deposizione di film sottili su un substrato, inclusi film multiprodotto e amorfi. Secondo...Per saperne di più -
Spettri di trasmissione e riflettanza e colore dei film sottili ottici - Capitolo 2
Da ciò stiamo per chiarire: (1) dispositivi a film sottile, trasmittanza, riflettanza e colore della relazione corrispondente tra, cioè uno spettro di un colore; al contrario, questa relazione non è “unica”, manifestandosi come un multispettro di colore. Pertanto, il film'...Per saperne di più -
Spettri di trasmissione e riflettanza e colore dei film sottili ottici - Capitolo 1
Gli spettri di trasmissione e riflettanza e i colori dei film sottili ottici sono due caratteristiche dei dispositivi a film sottile che coesistono. 1. Lo spettro di trasmissione e riflettanza è la relazione tra la riflettanza e la trasmittanza dei dispositivi a film sottile ottici con la lunghezza d'onda. È c...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento sottovuoto ottico PVD a evaporazione di film sottili AF
La macchina per rivestimento sottovuoto AF Thin Film Evaporation Optical PVD è progettata per applicare rivestimenti a film sottile su dispositivi mobili utilizzando il processo di deposizione fisica da fase vapore (PVD). Il processo prevede la creazione di un ambiente sottovuoto all'interno di una camera di rivestimento dove i materiali solidi vengono evaporati e quindi depositati...Per saperne di più -
Macchina per la produzione di specchi con rivestimento sottovuoto in alluminio argento
La macchina per la produzione di specchi con rivestimento sottovuoto in argento e alluminio ha rivoluzionato l'industria della produzione di specchi grazie alla sua tecnologia avanzata e alla precisione ingegneristica. Questa macchina all'avanguardia è progettata per applicare un sottile strato di argento e alluminio sulla superficie del vetro, creando specchi di alta qualità...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento sottovuoto ottico
La metallizzazione ottica sottovuoto è una tecnologia all'avanguardia che ha rivoluzionato il settore dei rivestimenti superficiali. Questa macchina avanzata utilizza un processo chiamato metallizzazione ottica sottovuoto per applicare un sottile strato di metallo su una varietà di substrati, creando una superficie altamente riflettente e durevole...Per saperne di più -
Deposizione chimica da fase vapore potenziata al plasma - Capitolo 2
La maggior parte degli elementi chimici può essere vaporizzata combinandosi con gruppi chimici, ad esempio il Si reagisce con l'H per formare SiH4 e l'Al si combina con il CH3 per formare Al(CH3). Nel processo CVD termico, i gas sopra menzionati assorbono una certa quantità di energia termica mentre attraversano il substrato riscaldato e formano...Per saperne di più -
Deposizione chimica da fase vapore potenziata al plasma - Capitolo 1
Deposizione chimica da fase vapore (CVD). Come suggerisce il nome, è una tecnica che utilizza reagenti precursori gassosi per generare film solidi mediante reazioni chimiche atomiche e intermolecolari. A differenza della PVD, il processo CVD viene per lo più eseguito in un ambiente ad alta pressione (basso vuoto), con...Per saperne di più -
Elementi di processo e meccanismi d'azione che influenzano la qualità dei dispositivi a film sottile (Parte 2)
3. Influenza della temperatura del substrato La temperatura del substrato è una delle condizioni importanti per la crescita della membrana. Fornisce un supplemento energetico aggiuntivo agli atomi o alle molecole della membrana e influenza principalmente la struttura della membrana, il coefficiente di agglutinazione, il coefficiente di espansione e l'aggregazione...Per saperne di più -
Fattori e meccanismi di processo che influenzano la qualità dei dispositivi a film sottile (Parte 1)
La fabbricazione di dispositivi ottici a film sottile viene effettuata in una camera a vuoto e la crescita dello strato di film è un processo microscopico. Tuttavia, attualmente, i processi macroscopici che possono essere controllati direttamente sono alcuni fattori macroscopici che hanno una relazione indiretta con la qualità...Per saperne di più -
Introduzione alla storia dello sviluppo della tecnologia di evaporazione
Il processo di riscaldamento di materiali solidi in un ambiente di alto vuoto per sublimarli o evaporarli e depositarli su un substrato specifico per ottenere un film sottile è noto come rivestimento per evaporazione sotto vuoto (detto anche rivestimento per evaporazione). La storia della preparazione di film sottili mediante evaporazione sotto vuoto...Per saperne di più -
Introduzione al rivestimento ITO
L'ossido di indio-stagno (ITO, noto anche come ossido di indio-stagno) è un materiale semiconduttore di tipo n fortemente drogato, con un'ampia banda proibita, caratterizzato da un'elevata trasmittanza della luce visibile e una bassa resistività, ed è quindi ampiamente utilizzato in celle solari, display a schermo piatto, finestre elettrocromiche, dispositivi inorganici e organici...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento sottovuoto da laboratorio
Gli spin coater sottovuoto da laboratorio sono strumenti importanti nel campo della deposizione di film sottili e della modifica delle superfici. Questa apparecchiatura avanzata è progettata per applicare in modo accurato e uniforme film sottili di una varietà di materiali su substrati. Il processo prevede l'applicazione di una soluzione liquida o di una sospensione...Per saperne di più -
Modalità di deposizione assistita da fascio ionico e relativa selezione energetica
Esistono due modalità principali di deposizione assistita da fascio ionico: una è l'ibrida dinamica e l'altra è l'ibrida statica. La prima si riferisce al film durante il processo di crescita, sempre accompagnato da una certa energia e corrente del fascio di ioni durante il bombardamento; la seconda prevede la pre-deposizione sulla superficie del...Per saperne di più
