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Notícias
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Deposição Química de Vapor
O crescimento epitaxial, também conhecido como epitaxia, é um dos processos mais importantes na fabricação de materiais e dispositivos semicondutores. O chamado crescimento epitaxial ocorre sob certas condições, em um substrato monocristalino, durante o crescimento de uma única camada de um produto em um filme fino.Leia mais -
Tipos de tecnologia CVD
De forma geral, a CVD pode ser dividida em dois tipos: um consiste na deposição de vapor de uma única camada epitaxial monocristalina sobre um substrato, que é denominada CVD estrita; o outro consiste na deposição de filmes finos sobre o substrato, incluindo filmes multicristalinos e amorfos. De acordo com...Leia mais -
Espectros de transmissão e refletância e cor de filmes finos ópticos Capítulo 2
A partir disso, vamos esclarecer: (1) dispositivos de película fina, espectros de transmitância e refletância e a cor da relação correspondente entre eles, ou seja, um espectro de cor; pelo contrário, essa relação “não é única”, manifestando-se como um multiespectro de cores. Portanto, a película...Leia mais -
Espectros de transmissão e refletância e cor de filmes finos ópticos Capítulo 1
Os espectros de transmissão e refletância, bem como as cores, de filmes finos ópticos são duas características de dispositivos de filme fino que coexistem. 1. O espectro de transmissão e refletância é a relação entre a refletância e a transmitância de dispositivos de filme fino óptico em função do comprimento de onda. É c...Leia mais -
Máquina de revestimento a vácuo PVD óptico de evaporação de filme fino AF
A máquina de revestimento a vácuo AF Thin Film Evaporation Optical PVD foi projetada para aplicar revestimentos de película fina em dispositivos móveis usando o processo de Deposição Física de Vapor (PVD). O processo envolve a criação de um ambiente de vácuo dentro de uma câmara de revestimento, onde os materiais sólidos são evaporados e, em seguida, depositados...Leia mais -
Máquina para fabricação de espelhos com revestimento a vácuo de alumínio prateado
A máquina de revestimento a vácuo de alumínio prateado para fabricação de espelhos revolucionou a indústria de espelhos com sua tecnologia avançada e engenharia de precisão. Esta máquina de última geração foi projetada para aplicar uma fina camada de alumínio prateado na superfície do vidro, criando espelhos de alta qualidade...Leia mais -
Máquina de revestimento óptico a vácuo
A metalizadora óptica a vácuo é uma tecnologia de ponta que revolucionou a indústria de revestimento de superfícies. Esta máquina avançada utiliza um processo chamado metalização óptica a vácuo para aplicar uma fina camada de metal a uma variedade de substratos, criando uma superfície altamente reflexiva e durável.Leia mais -
Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Capítulo 2
A maioria dos elementos químicos pode ser vaporizada combinando-se com grupos químicos, por exemplo, o Si reage com o H para formar SiH4 e o Al combina-se com o CH3 para formar Al(CH3). No processo de CVD térmico, os gases acima absorvem uma certa quantidade de energia térmica ao passarem pelo substrato aquecido e formam novos elementos.Leia mais -
Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Capítulo 1
Deposição Química de Vapor (CVD). Como o nome indica, é uma técnica que utiliza reagentes precursores gasosos para gerar filmes sólidos por meio de reações químicas atômicas e intermoleculares. Ao contrário da PVD, o processo de CVD é realizado principalmente em um ambiente de alta pressão (baixo vácuo), com...Leia mais -
Elementos do processo e mecanismos de ação que afetam a qualidade de dispositivos de película fina (Parte 2)
3. Influência da temperatura do substrato A temperatura do substrato é uma das condições importantes para o crescimento da membrana. Ela fornece um suplemento de energia adicional aos átomos ou moléculas da membrana e afeta principalmente a estrutura da membrana, o coeficiente de aglutinação, o coeficiente de expansão e a agregação...Leia mais -
Fatores e mecanismos de processo que afetam a qualidade de dispositivos de película fina (Parte 1)
A fabricação de dispositivos ópticos de película fina é realizada em uma câmara de vácuo, e o crescimento da camada de película é um processo microscópico. No entanto, atualmente, os processos macroscópicos que podem ser controlados diretamente são alguns fatores macroscópicos que têm uma relação indireta com a qualidade...Leia mais -
Introdução ao histórico de desenvolvimento da tecnologia de evaporação
O processo de aquecimento de materiais sólidos em um ambiente de alto vácuo para sublimá-los ou evaporá-los e depositá-los sobre um substrato específico para obter um filme fino é conhecido como revestimento por evaporação a vácuo (referido como revestimento por evaporação). A história da preparação de filmes finos por evaporação a vácuo...Leia mais -
Introdução ao revestimento de ITO
O óxido de índio e estanho (ITO) é um material semicondutor do tipo n, altamente dopado e com ampla banda proibida, caracterizado por alta transmitância de luz visível e baixa resistividade. Por isso, é amplamente utilizado em células solares, telas planas, janelas eletrocrômicas, componentes inorgânicos e orgânicos.Leia mais -
Máquina de revestimento por centrifugação a vácuo de laboratório
Os revestidores de laboratório a vácuo por rotação são ferramentas importantes na área de deposição de filmes finos e modificação de superfícies. Este equipamento avançado é projetado para aplicar com precisão e uniformidade filmes finos de diversos materiais em substratos. O processo envolve a aplicação de uma solução líquida ou suspensão...Leia mais -
Modo de deposição assistida por feixe de íons e sua seleção de energia
Existem dois modos principais de deposição assistida por feixe de íons: o híbrido dinâmico e o híbrido estático. O primeiro refere-se ao processo de crescimento do filme, que é sempre acompanhado por uma determinada energia e corrente de feixe de íons; o segundo consiste na pré-deposição do filme na superfície do substrato.Leia mais
