Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita
-
Deposisi Uap Kimia
Pertumbuhan epitaksial, yang sering juga disebut epitaksi, adalah salah satu proses terpenting dalam fabrikasi material dan perangkat semikonduktor. Pertumbuhan epitaksial yang disebut demikian terjadi dalam kondisi tertentu pada substrat kristal tunggal untuk menumbuhkan lapisan film produk tunggal...Baca selengkapnya -
Jenis-jenis Teknologi CVD
Secara garis besar, CVD dapat dibagi menjadi dua jenis: pertama, deposisi uap lapisan epitaksial kristal tunggal pada substrat, yang merupakan CVD dalam skala sempit; kedua, deposisi film tipis pada substrat, termasuk film multi-produk dan amorf. Menurut...Baca selengkapnya -
Spektrum Transmisi dan Reflektansi serta Warna Film Tipis Optik Bab 2
Dari sini kita akan mengklarifikasi: (1) perangkat film tipis, transmisi, spektrum refleksi dan warna hubungan yang sesuai antara, yaitu, spektrum warna; sebaliknya, hubungan ini “tidak unik”, termanifestasi sebagai multi-spektrum warna. Oleh karena itu, film'...Baca selengkapnya -
Spektrum Transmisi dan Reflektansi serta Warna Film Tipis Optik Bab 1
Spektrum transmisi dan reflektansi serta warna film tipis optik adalah dua karakteristik perangkat film tipis yang ada secara bersamaan. 1. Spektrum transmisi dan reflektansi adalah hubungan antara reflektansi dan transmitansi perangkat film tipis optik dengan panjang gelombang. Ini adalah...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapisan Vakum PVD Optik Penguapan Film Tipis AF
Mesin pelapis vakum AF Thin Film Evaporation Optical PVD dirancang untuk mengaplikasikan lapisan film tipis pada perangkat seluler menggunakan proses Physical Vapor Deposition (PVD). Proses ini melibatkan pembuatan lingkungan vakum di dalam ruang pelapisan di mana material padat diuapkan dan kemudian diendapkan...Baca selengkapnya -
Mesin pembuatan cermin pelapis vakum perak aluminium
Mesin pembuatan cermin pelapis vakum aluminium perak telah merevolusi industri pembuatan cermin dengan teknologi canggih dan rekayasa presisinya. Mesin mutakhir ini dirancang untuk mengaplikasikan lapisan tipis aluminium perak ke permukaan kaca, menciptakan cermin berkualitas tinggi...Baca selengkapnya -
Mesin pelapis vakum optik
Metalisasi vakum optik adalah teknologi mutakhir yang telah merevolusi industri pelapisan permukaan. Mesin canggih ini menggunakan proses yang disebut metalisasi vakum optik untuk mengaplikasikan lapisan tipis logam ke berbagai substrat, menciptakan permukaan yang sangat reflektif dan tahan lama...Baca selengkapnya -
Deposisi Uap Kimia yang Ditingkatkan Plasma Bab 2
Sebagian besar unsur kimia dapat diuapkan dengan menggabungkannya dengan gugus kimia, misalnya Si bereaksi dengan H membentuk SiH4, dan Al bergabung dengan CH3 membentuk Al(CH3). Dalam proses CVD termal, gas-gas di atas menyerap sejumlah energi termal saat melewati substrat yang dipanaskan dan membentuk...Baca selengkapnya -
Deposisi Uap Kimia yang Ditingkatkan Plasma Bab 1
Chemical Vapor Deposition (CVD). Sesuai namanya, ini adalah teknik yang menggunakan reaktan prekursor gas untuk menghasilkan film padat melalui reaksi kimia atom dan antarmolekul. Tidak seperti PVD, proses CVD sebagian besar dilakukan dalam lingkungan bertekanan lebih tinggi (vakum lebih rendah), dengan...Baca selengkapnya -
Elemen Proses dan Mekanisme Aksi yang Mempengaruhi Kualitas Perangkat Film Tipis (Bagian 2)
3. Pengaruh Suhu Substrat Suhu substrat merupakan salah satu kondisi penting untuk pertumbuhan membran. Suhu substrat memberikan tambahan energi pada atom atau molekul membran, dan terutama memengaruhi struktur membran, koefisien aglutinasi, koefisien ekspansi, dan agregasi...Baca selengkapnya -
Faktor dan Mekanisme Proses yang Mempengaruhi Kualitas Perangkat Film Tipis (Bagian 1)
Pembuatan perangkat film tipis optik dilakukan dalam ruang vakum, dan pertumbuhan lapisan film merupakan proses mikroskopis. Namun, saat ini, proses makroskopis yang dapat dikontrol secara langsung adalah beberapa faktor makroskopis yang memiliki hubungan tidak langsung dengan kualitas...Baca selengkapnya -
Pengantar sejarah perkembangan teknologi penguapan
Proses pemanasan material padat dalam lingkungan vakum tinggi untuk menyublimasikan atau menguapkan dan kemudian mengendapkannya pada substrat tertentu untuk mendapatkan lapisan tipis dikenal sebagai pelapisan penguapan vakum (disebut sebagai pelapisan penguapan). Sejarah pembuatan lapisan tipis dengan penguapan vakum...Baca selengkapnya -
Pengenalan Pelapisan ITO
Indium timah oksida (Indium Tin Oxide, disebut sebagai ITO) adalah material semikonduktor tipe-n dengan celah pita lebar dan doping tinggi, memiliki karakteristik transmisi cahaya tampak yang tinggi dan resistivitas rendah, sehingga banyak digunakan dalam sel surya, layar panel datar, jendela elektrokromik, aplikasi anorganik dan organik...Baca selengkapnya -
Mesin pelapis putar vakum laboratorium
Peralatan pelapis putar vakum laboratorium merupakan alat penting di bidang deposisi lapisan tipis dan modifikasi permukaan. Peralatan canggih ini dirancang untuk mengaplikasikan lapisan tipis dari berbagai material secara akurat dan merata ke substrat. Prosesnya melibatkan pengaplikasian larutan cair atau suspensi...Baca selengkapnya -
Mode deposisi berbantuan berkas ion dan pemilihan energinya
Terdapat dua mode utama deposisi yang dibantu berkas ion, yaitu hibrida dinamis; dan hibrida statis. Yang pertama mengacu pada proses pertumbuhan film yang selalu disertai dengan energi dan arus berkas ion tertentu dari penembakan dan pembentukan film; yang kedua adalah pra-deposisi pada permukaan...Baca selengkapnya
