Mesin pelapis anti-refleksi adalah peralatan khusus yang digunakan untuk melapisi komponen optik seperti lensa, cermin, dan layar dengan lapisan tipis dan transparan untuk mengurangi pantulan dan meningkatkan transmisi cahaya. Lapisan ini sangat penting dalam berbagai aplikasi, termasuk optik, ...
Karena filter, seperti produk buatan manusia lainnya, tidak dapat diproduksi untuk benar-benar sesuai dengan spesifikasi manual, beberapa nilai yang diizinkan harus dinyatakan. Untuk filter pita sempit, parameter utama yang toleransinya harus diberikan adalah: panjang gelombang puncak, transmitansi puncak, dan lebar pita,...
Electrode Vacuum Heat Coater adalah peralatan khusus yang digunakan dalam aplikasi industri dan ilmiah untuk melapisi elektroda atau substrat lainnya dalam lingkungan vakum, seringkali dikombinasikan dengan perlakuan panas. Proses ini umumnya digunakan di bidang-bidang seperti elektronik, ilmu material, dan lain-lain.
Spesifikasi kinerja filter adalah deskripsi yang diperlukan tentang kinerja filter dalam bahasa yang mudah dipahami oleh perancang sistem, pengguna, produsen filter, dll. Terkadang produsen filter menulis spesifikasi berdasarkan kinerja filter yang dapat dicapai. Beberapa...
Filtrasi magnetik dalam sistem pelapisan vakum mengacu pada penggunaan medan magnet untuk menyaring partikel atau kontaminan yang tidak diinginkan selama proses pengendapan dalam lingkungan vakum. Sistem ini sering digunakan dalam berbagai aplikasi industri seperti fabrikasi semikonduktor, optik, dan lain-lain.
Perak pernah menjadi material logam yang paling umum hingga pertengahan tahun 1930-an, ketika menjadi material film reflektif utama untuk instrumen optik presisi, biasanya dilapisi secara kimia dalam cairan. Metode pelapisan kimia cair digunakan untuk menghasilkan cermin yang digunakan dalam arsitektur, dan dalam hal ini...
Proses deposisi uap vakum umumnya meliputi pembersihan permukaan substrat, persiapan sebelum pelapisan, deposisi uap, pemuatan, perawatan setelah pelapisan, pengujian, dan produk jadi. (1) Pembersihan permukaan substrat. Dinding ruang vakum, rangka substrat dan permukaan lainnya, minyak, karat, ...
Lapisan film pada sumber penguapan pemanasan dapat membuat partikel membran dalam bentuk atom (atau molekul) masuk ke ruang fase gas. Di bawah suhu tinggi sumber penguapan, atom atau molekul di permukaan membran mendapatkan energi yang cukup untuk mengatasi hambatan...
Pelapisan PVD (Physical Vapor Deposition) adalah teknik yang banyak digunakan untuk membuat film tipis dan lapisan permukaan. Di antara metode umum, penguapan termal dan sputtering adalah dua proses PVD yang penting. Berikut penjelasan masing-masing: 1. Penguapan Termal Prinsip: Material dipanaskan...
Pelapisan vakum berkas elektron, atau deposisi uap fisik berkas elektron (EBPVD), adalah proses yang digunakan untuk mendepositkan lapisan tipis atau pelapis ke berbagai permukaan. Proses ini melibatkan penggunaan berkas elektron untuk memanaskan dan menguapkan bahan pelapis (seperti logam atau keramik) dalam ruang vakum tinggi. Bahan yang menguap...
China telah menjadi basis produksi cetakan dunia, dengan pangsa pasar cetakan lebih dari 100 miliar, dan industri cetakan telah menjadi dasar pengembangan industri modern. Dalam beberapa tahun terakhir, industri cetakan China mengalami perkembangan pesat dengan tingkat pertumbuhan tahunan lebih dari 10%. Oleh karena itu, bagaimana cara...
Proses memperoleh vakum juga dikenal sebagai "pemompaan vakum", yang merujuk pada penggunaan berbagai pompa vakum untuk menghilangkan udara di dalam wadah, sehingga tekanan di dalam ruang tersebut turun hingga di bawah satu atmosfer. Saat ini, untuk mendapatkan vakum, perangkat yang umum digunakan termasuk pompa baling-baling putar...
Proses deposisi uap vakum umumnya mencakup langkah-langkah seperti pembersihan permukaan substrat, persiapan sebelum pelapisan, deposisi uap, pengambilan potongan, perlakuan pasca-pelapisan, pengujian, dan produk jadi. (1) Pembersihan permukaan substrat. Dinding ruang vakum, rangka substrat dan lainnya...
Mengapa Menggunakan Vakum? Mencegah Kontaminasi: Dalam vakum, ketiadaan udara dan gas lainnya mencegah material pengendapan bereaksi dengan gas atmosfer, yang dapat mengkontaminasi lapisan film. Daya Rekat yang Lebih Baik: Ketiadaan udara berarti lapisan film menempel langsung ke substrat tanpa udara...
Deposisi lapisan tipis adalah proses mendasar yang digunakan dalam industri semikonduktor, serta di banyak bidang ilmu dan teknik material lainnya. Proses ini melibatkan pembuatan lapisan tipis material pada substrat. Lapisan yang dideposisikan dapat memiliki berbagai ketebalan, mulai dari hanya beberapa atom...