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Deposición química de vapor
El crecimiento epitaxial, también conocido como epitaxia, es uno de los procesos más importantes en la fabricación de materiales y dispositivos semiconductores. El llamado crecimiento epitaxial se produce bajo ciertas condiciones en un sustrato monocristalino, mediante el crecimiento de una capa de película de un solo producto.Leer más -
Tipos de tecnología CVD
En términos generales, la CVD se puede dividir en dos tipos: uno consiste en la deposición de un solo producto sobre un sustrato mediante vaporización, formando una capa epitaxial monocristalina, lo que se conoce como CVD; el otro consiste en la deposición de películas delgadas sobre el sustrato, incluyendo películas multiproducto y amorfas. Según...Leer más -
Espectros de transmisión y reflectancia y color de películas delgadas ópticas Capítulo 2
A partir de esto, vamos a aclarar: (1) dispositivos de película delgada, transmitancia, espectros de reflectancia y el color de la relación correspondiente entre, es decir, un espectro de un color; por el contrario, esta relación “no es única”, manifestándose como un multiespectro de color. Por lo tanto, la película...Leer más -
Espectros de transmisión y reflectancia y color de películas delgadas ópticas Capítulo 1
Los espectros de transmisión y reflectancia, así como los colores de las películas delgadas ópticas, son dos características de los dispositivos de película delgada que coexisten. 1. El espectro de transmisión y reflectancia es la relación entre la reflectancia y la transmitancia de los dispositivos de película delgada óptica con la longitud de onda. Es...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío por evaporación de película delgada AF PVD óptica
La máquina de recubrimiento al vacío por evaporación de película delgada óptica AF PVD está diseñada para aplicar recubrimientos de película delgada a dispositivos móviles mediante el proceso de deposición física de vapor (PVD). El proceso consiste en crear un entorno de vacío dentro de una cámara de recubrimiento donde los materiales sólidos se evaporan y luego se depositan...Leer más -
Máquina para la fabricación de espejos con recubrimiento al vacío de plata de aluminio
La máquina de recubrimiento al vacío de plata de aluminio para la fabricación de espejos ha revolucionado la industria gracias a su tecnología avanzada y su ingeniería de precisión. Esta máquina de última generación está diseñada para aplicar una fina capa de plata de aluminio a la superficie del vidrio, creando espejos de alta calidad...Leer más -
Máquina de recubrimiento óptico al vacío
El metalizador óptico al vacío es una tecnología de vanguardia que ha revolucionado la industria del recubrimiento de superficies. Esta avanzada máquina utiliza un proceso llamado metalización óptica al vacío para aplicar una fina capa de metal a diversos sustratos, creando una superficie altamente reflectante y duradera.Leer más -
Deposición química en fase vapor asistida por plasma Capítulo 2
La mayoría de los elementos químicos pueden vaporizarse combinándolos con grupos químicos; por ejemplo, el Si reacciona con H para formar SiH4, y el Al se combina con CH3 para formar Al(CH3). En el proceso de CVD térmico, los gases mencionados absorben una cierta cantidad de energía térmica al pasar a través del sustrato calentado y forman...Leer más -
Deposición química en fase vapor asistida por plasma Capítulo 1
Deposición química en fase vapor (CVD). Como su nombre indica, es una técnica que utiliza reactivos precursores gaseosos para generar películas sólidas mediante reacciones químicas atómicas e intermoleculares. A diferencia de la PVD, el proceso CVD se lleva a cabo principalmente en un entorno de mayor presión (menor vacío), con...Leer más -
Elementos del proceso y mecanismos de acción que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 2)
3. Influencia de la temperatura del sustrato La temperatura del sustrato es una de las condiciones importantes para el crecimiento de la membrana. Proporciona un aporte energético adicional a los átomos o moléculas de la membrana y afecta principalmente a la estructura de la membrana, el coeficiente de aglutinación, el coeficiente de expansión y la agregación...Leer más -
Factores y mecanismos del proceso que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 1)
La fabricación de dispositivos ópticos de película delgada se lleva a cabo en una cámara de vacío, y el crecimiento de la capa de película es un proceso microscópico. Sin embargo, en la actualidad, los procesos macroscópicos que se pueden controlar directamente son algunos factores macroscópicos que tienen una relación indirecta con la calidad...Leer más -
Introducción a la historia del desarrollo de la tecnología de evaporación
El proceso de calentar materiales sólidos en un entorno de alto vacío para sublimarlos o evaporarlos y depositarlos sobre un sustrato específico para obtener una película delgada se conoce como recubrimiento por evaporación al vacío (o simplemente recubrimiento por evaporación). La historia de la preparación de películas delgadas mediante evaporación al vacío...Leer más -
Introducción al recubrimiento ITO
El óxido de indio y estaño (óxido de indio y estaño, también conocido como ITO) es un material semiconductor de tipo n con una banda prohibida ancha y fuertemente dopado, que presenta una alta transmitancia de luz visible y características de baja resistividad, por lo que se utiliza ampliamente en células solares, pantallas planas, ventanas electrocrómicas, materiales inorgánicos y orgánicos...Leer más -
Máquina de recubrimiento por centrifugación al vacío de laboratorio
Los recubridores centrífugos al vacío de laboratorio son herramientas importantes en el campo de la deposición de películas delgadas y la modificación de superficies. Este equipo avanzado está diseñado para aplicar de forma precisa y uniforme películas delgadas de diversos materiales sobre sustratos. El proceso implica la aplicación de una solución líquida o...Leer más -
Modo de deposición asistida por haz de iones y su selección de energía
Existen dos modos principales de deposición asistida por haz de iones: uno es el híbrido dinámico y el otro el híbrido estático. El primero se refiere a que la película, durante el proceso de crecimiento, siempre está acompañada por una cierta energía y corriente de haz de bombardeo de iones sobre la película; el segundo se refiere a la predeposición sobre la superficie de la misma...Leer más
