Stroje na nanášanie antireflexných vrstiev sú špecializované zariadenia používané na nanášanie tenkých, priehľadných vrstiev na optické súčiastky, ako sú šošovky, zrkadlá a displeje, s cieľom znížiť odraz a zvýšiť priepustnosť svetla. Tieto vrstvy sú nevyhnutné v rôznych aplikáciách vrátane optiky, ...
Keďže filtre, rovnako ako akýkoľvek iný umelý výrobok, nemožno vyrobiť tak, aby presne zodpovedali špecifikáciám v manuáli, je potrebné uviesť niektoré povolené hodnoty. Pre úzkopásmové filtre sú hlavnými parametrami, pre ktoré by sa mali uviesť tolerancie, tieto: maximálna vlnová dĺžka, maximálna priepustnosť a šírka pásma,...
Vákuový tepelný povlakovač elektród je špecializované zariadenie používané v priemyselných a vedeckých aplikáciách na povlakovanie elektród alebo iných substrátov vo vákuovom prostredí, často spojené s tepelným spracovaním. Tento proces sa bežne používa v oblastiach ako elektronika, materiálová veda...
Špecifikácie výkonu filtra sú nevyhnutné popisy výkonu filtra v jazyku, ktorému ľahko rozumejú návrhári systémov, používatelia, výrobcovia filtrov atď. Niekedy výrobca filtra píše špecifikácie na základe dosiahnuteľného výkonu filtra. Niektoré...
Magnetická filtrácia vo vákuových náterových systémoch sa vzťahuje na použitie magnetických polí na filtrovanie nežiaducich častíc alebo nečistôt počas procesu nanášania vo vákuovom prostredí. Tieto systémy sa často používajú v rôznych priemyselných aplikáciách, ako je výroba polovodičov, optika a...
Striebro bolo kedysi najrozšírenejším kovovým materiálom až do polovice 30. rokov 20. storočia, keď sa stalo hlavným reflexným filmovým materiálom pre presné optické prístroje, zvyčajne chemicky pokovovaným v kvapaline. Metóda chemického pokovovania v kvapaline sa používala na výrobu zrkadiel na použitie v architektúre a v...
Proces vákuového naparovania vo všeobecnosti zahŕňa čistenie povrchu substrátu, prípravu pred nanášaním, naparovanie, nanášanie, úpravu po nanášaní, testovanie a hotové výrobky. (1) Čistenie povrchu substrátu. Steny vákuovej komory, rám substrátu a iné povrchy, olej, hrdza, zvyšky...
Filmová vrstva v zdroji odparovania tepla a odparovania môže spôsobiť, že častice membrány vo forme atómov (alebo molekúl) sa dostanú do priestoru plynnej fázy. Pri vysokej teplote zdroja odparovania získajú atómy alebo molekuly na povrchu membrány dostatok energie na prekonanie...
PVD (fyzikálne nanášanie z pár) sú široko používané techniky na vytváranie tenkých vrstiev a povrchových náterov. Medzi bežné metódy patria termálne odparovanie a naprašovanie, ktoré sú dva dôležité PVD procesy. Tu je rozpis každého z nich: 1. Princíp termického odparovania: Materiál sa zahrieva...
Vákuové nanášanie elektrónovým lúčom alebo fyzikálna depozícia z pár elektrónovým lúčom (EBPVD) je proces používaný na nanášanie tenkých vrstiev alebo povlakov na rôzne povrchy. Zahŕňa použitie elektrónového lúča na zahrievanie a odparovanie povlakového materiálu (ako je kov alebo keramika) vo vysokovákuovej komore. Odparený materiál...
Čína sa stala svetovou základňou výroby foriem s podielom na trhu s formami viac ako 100 miliárd, priemysel výroby foriem sa stal základom moderného priemyselného rozvoja. V posledných rokoch sa čínsky priemysel výroby foriem rýchlo rozvíja s viac ako 10 % ročnej miery rastu. Preto, ako...
Získanie vákua je tiež známe ako „vákuové čerpanie“, čo znamená použitie rôznych vákuových čerpadiel na odstránenie vzduchu vo vnútri nádoby, takže tlak vo vnútri priestoru klesne pod jednu atmosféru. V súčasnosti sa na dosiahnutie vákua používajú bežne používané zariadenia vrátane rotačných lopatiek...
Proces vákuového nanášania pár vo všeobecnosti zahŕňa kroky, ako je čistenie povrchu substrátu, príprava pred nanášaním povlaku, nanášanie pár, odoberanie kusov, úprava po nanášaní povlaku, testovanie a hotové výrobky. (1) Čistenie povrchu substrátu. Steny vákuovej komory, rám substrátu a ďalšie...
Prečo používať vákuum? Predchádzanie kontaminácii: Vo vákuu absencia vzduchu a iných plynov zabraňuje reakcii nanášaného materiálu s atmosférickými plynmi, ktoré by mohli kontaminovať film. Zlepšená priľnavosť: Absencia vzduchu znamená, že film priľne priamo k podkladu bez vzduchu...
Nanášanie tenkých vrstiev je základný proces používaný v polovodičovom priemysle, ako aj v mnohých ďalších oblastiach materiálovej vedy a inžinierstva. Zahŕňa vytvorenie tenkej vrstvy materiálu na substráte. Nanesené vrstvy môžu mať široký rozsah hrúbky, od niekoľkých atómov až po...