Pertumbuhan epitaksi, yang sering juga dirujuk sebagai epitaksi, merupakan salah satu proses yang paling penting dalam fabrikasi bahan dan peranti semikonduktor. Pertumbuhan epitaksi yang dipanggil adalah dalam keadaan tertentu dalam substrat kristal tunggal pada pertumbuhan lapisan proses filem produk tunggal,...
Secara umumnya, CVD boleh dibahagikan kepada dua jenis: satu ialah pemendapan wap produk tunggal pada substrat lapisan epitaksi kristal tunggal, yang secara sempitnya CVD; yang lain ialah pemendapan filem nipis pada substrat, termasuk filem berbilang produk dan amorfus. Menurut t...
Daripada ini, kami akan menjelaskan: (1) peranti filem nipis, transmisi, spektrum pantulan dan warna hubungan yang sepadan antara, iaitu, spektrum warna; sebaliknya, hubungan ini "tidak unik", dimanifestasikan sebagai spektrum berbilang warna. Oleh itu, filem'...
Spektrum penghantaran dan pantulan serta warna filem nipis optik adalah dua ciri peranti filem nipis yang wujud pada masa yang sama. 1. Spektrum penghantaran dan pantulan ialah hubungan antara pantulan dan transmisi peranti filem nipis optik dengan panjang gelombang. Ia adalah...
Mesin salutan vakum PVD Optik Penyejatan Filem Nipis AF direka bentuk untuk menggunakan salutan filem nipis pada peranti mudah alih menggunakan proses Pemendapan Wap Fizikal (PVD). Proses ini melibatkan penciptaan persekitaran vakum dalam ruang salutan di mana bahan pepejal disejat dan kemudian dimendapkan...
Mesin pembuat cermin salutan vakum aluminium perak telah merevolusikan industri pembuatan cermin dengan teknologi canggih dan kejuruteraan jitunya. Mesin canggih ini direka bentuk untuk menggunakan salutan nipis aluminium perak pada permukaan kaca, menghasilkan...
Pengisar vakum optik ialah teknologi canggih yang telah merevolusikan industri salutan permukaan. Mesin canggih ini menggunakan proses yang dipanggil pengisar vakum optik untuk menggunakan lapisan logam nipis pada pelbagai substrat, menghasilkan permukaan yang sangat memantulkan cahaya dan tahan lama...
Kebanyakan unsur kimia boleh diwapkan dengan menggabungkannya dengan kumpulan kimia, contohnya Si bertindak balas dengan H untuk membentuk SiH4, dan Al bergabung dengan CH3 untuk membentuk Al(CH3). Dalam proses CVD terma, gas-gas di atas menyerap sejumlah tenaga terma tertentu semasa ia melalui substrat yang dipanaskan dan membentuk semula...
Pemendapan Wap Kimia (CVD). Seperti namanya, ia adalah teknik yang menggunakan bahan tindak balas prekursor gas untuk menghasilkan filem pepejal melalui tindak balas kimia atom dan antara molekul. Tidak seperti PVD, proses CVD kebanyakannya dijalankan dalam persekitaran tekanan tinggi (vakum rendah), dengan...
3. Pengaruh suhu substrat Suhu substrat merupakan salah satu keadaan penting untuk pertumbuhan membran. Ia menyediakan tenaga tambahan kepada atom atau molekul membran, dan terutamanya mempengaruhi struktur membran, pekali aglutinasi, pekali pengembangan dan pengagregatan...
Pembuatan peranti filem nipis optik dijalankan dalam ruang vakum, dan pertumbuhan lapisan filem merupakan proses mikroskopik. Walau bagaimanapun, pada masa ini, proses makroskopik yang boleh dikawal secara langsung adalah beberapa faktor makroskopik yang mempunyai hubungan tidak langsung dengan kualiti...
Proses pemanasan bahan pepejal dalam persekitaran vakum tinggi untuk menyejukkan atau meruap dan memendapkannya pada substrat tertentu untuk mendapatkan filem nipis dikenali sebagai salutan penyejatan vakum (dirujuk sebagai salutan penyejatan). Sejarah penyediaan filem nipis melalui penyejatan vakum...
Indium timah oksida (Indium Timah Oksida, dirujuk sebagai ITO) ialah jurang jalur yang lebar, bahan semikonduktor jenis-n yang didop dengan kuat, dengan transmisi cahaya yang tinggi dan ciri-ciri kerintangan yang rendah, dan dengan itu digunakan secara meluas dalam sel suria, paparan panel rata, tingkap elektrokromik, bukan organik dan organik...
Salutan putaran vakum makmal merupakan alat penting dalam bidang pemendapan filem nipis dan pengubahsuaian permukaan. Peralatan canggih ini direka bentuk untuk menggunakan filem nipis pelbagai bahan dengan tepat dan sekata pada substrat. Proses ini melibatkan penggunaan larutan cecair atau sus...
Terdapat dua mod utama pemendapan berbantukan pancaran ion, satu ialah hibrid dinamik; yang satu lagi ialah hibrid statik. Yang pertama merujuk kepada filem dalam proses pertumbuhan yang sentiasa disertai oleh tenaga dan arus pancaran tertentu bagi pengeboman ion dan filem; yang kedua dimendapkan terlebih dahulu pada permukaan...