Stroje na nanášení antireflexních povlaků jsou specializovaná zařízení používaná k nanášení tenkých, průhledných povlaků na optické součástky, jako jsou čočky, zrcadla a displeje, za účelem snížení odrazu a zvýšení propustnosti světla. Tyto povlaky jsou nezbytné v celé řadě aplikací, včetně optiky, ...
Protože filtry, stejně jako jakýkoli jiný umělý výrobek, nelze vyrobit tak, aby přesně odpovídaly specifikacím v manuálu, je nutné uvést některé přípustné hodnoty. U úzkopásmových filtrů jsou hlavními parametry, pro které by měly být uvedeny tolerance, tyto: maximální vlnová délka, maximální propustnost a šířka pásma,...
Vakuový tepelný povlakovač elektrod je specializované zařízení používané v průmyslových a vědeckých aplikacích pro povlakování elektrod nebo jiných substrátů ve vakuovém prostředí, často ve spojení s tepelným zpracováním. Tento proces se běžně používá v oblastech, jako je elektronika, materiálová věda...
Specifikace výkonu filtru jsou nezbytné popisy výkonu filtru v jazyce, kterému snadno rozumí systémoví návrháři, uživatelé, výrobci filtrů atd. Někdy výrobce filtru píše specifikace na základě dosažitelného výkonu filtru. Některé...
Magnetická filtrace ve vakuových povlakovacích systémech označuje použití magnetických polí k filtrování nežádoucích částic nebo kontaminantů během procesu nanášení ve vakuovém prostředí. Tyto systémy se často používají v různých průmyslových aplikacích, jako je výroba polovodičů, optika a...
Stříbro bylo kdysi nejrozšířenějším kovovým materiálem až do poloviny 30. let 20. století, kdy se stalo primárním reflexním filmovým materiálem pro přesné optické přístroje, obvykle chemicky pokovovaným v kapalině. Metoda chemického pokovování v kapalině se používala k výrobě zrcadel pro použití v architektuře a v tomto...
Proces vakuové depozice z plynné fáze obecně zahrnuje čištění povrchu substrátu, přípravu před nanášením povlaku, depozici z plynné fáze, nanášení, úpravu po nanášení povlaku, testování a hotové výrobky. (1) Čištění povrchu substrátu. Stěny vakuové komory, rám substrátu a další povrchy odstraňují olej, rez, zbytky...
Filmová vrstva ve zdroji odpařování tepla a odpařování může způsobit, že částice membrány ve formě atomů (nebo molekul) se dostanou do plynného fázového prostoru. Při vysoké teplotě zdroje odpařování získají atomy nebo molekuly na povrchu membrány dostatek energie k překonání...
PVD (fyzikální depozice z plynné fáze) jsou široce používané techniky pro vytváření tenkých vrstev a povrchových povlaků. Mezi běžné metody patří termální napařování a naprašování, což jsou dva důležité PVD procesy. Zde je rozpis každého z nich: 1. Princip termického napařování: Materiál se zahřívá...
Vakuové nanášení elektronovým paprskem neboli fyzikální depozice z plynné fáze elektronovým paprskem (EBPVD) je proces používaný k nanášení tenkých vrstev nebo povlaků na různé povrchy. Zahrnuje použití elektronového paprsku k ohřevu a odpařování povlakového materiálu (jako je kov nebo keramika) ve vysokovakuové komoře. Odpařený materiál...
Čína se stala světovou základnou pro výrobu forem s podílem na trhu s formami více než 100 miliard dolarů a průmysl výroby forem se stal základem moderního průmyslového rozvoje. V posledních letech se čínský průmysl výroby forem rychle rozvíjí s více než 10% ročním tempem růstu. Jak tedy...
Získání vakua je také známé jako „vakuové čerpání“, což znamená použití různých vakuových pump k odstranění vzduchu uvnitř nádoby tak, aby tlak uvnitř prostoru klesl pod jednu atmosféru. V současné době se pro dosažení vakua používají běžně používaná zařízení, včetně rotačních lopatek...
Proces vakuového napařování obecně zahrnuje kroky, jako je čištění povrchu substrátu, příprava před nanášením povlaku, napařování, odebírání kusů, úprava po nanášení povlaku, testování a hotové výrobky. (1) Čištění povrchu substrátu. Stěny vakuové komory, rám substrátu a další...
Proč používat vakuum? Prevence kontaminace: Ve vakuu absence vzduchu a jiných plynů zabraňuje reakci nanášeného materiálu s atmosférickými plyny, které by mohly kontaminovat film. Zlepšená přilnavost: Absence vzduchu znamená, že film přilne přímo k podkladu bez přístupu vzduchu...
Nanášení tenkých vrstev je základní proces používaný v polovodičovém průmyslu, stejně jako v mnoha dalších oblastech materiálové vědy a inženýrství. Zahrnuje vytvoření tenké vrstvy materiálu na substrátu. Nanesené vrstvy mohou mít širokou škálu tlouštěk, od několika atomů až po...