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Nachricht
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Technische Merkmale der Sputterbeschichtungsanlage
Die Vakuum-Magnetron-Sputtertechnik eignet sich besonders für reaktive Beschichtungen. Mit diesem Verfahren lassen sich dünne Schichten beliebiger Oxid-, Carbid- und Nitridmaterialien abscheiden. Darüber hinaus ist es auch besonders geeignet für die Abscheidung von Mehrschichtstrukturen, einschließlich optischer Schichten.Mehr lesen -
Einführung in die DLC-Technologie
DLC ist die Abkürzung für „diamantähnlicher Kohlenstoff“ und bezeichnet eine aus Kohlenstoffelementen bestehende Substanz, die Diamant ähnelt und die Struktur von Graphitatomen aufweist. Diamantähnlicher Kohlenstoff (DLC) ist ein amorpher Film, der das Interesse der tribologischen Fachwelt geweckt hat…Mehr lesen -
Eigenschaften und Anwendungen von Diamantfilmen, Kapitel 2
Elektrische Eigenschaften und Anwendungen von Diamantschichten: Diamant besitzt unter anderem eine verbotene Bandlücke, hohe Ladungsträgermobilität, gute Wärmeleitfähigkeit, hohe Sättigungs-Elektronendriftgeschwindigkeit, eine geringe Dielektrizitätskonstante, hohe Durchbruchspannung und hohe Elektronen-Loch-Mobilität. Seine Durchbruchspannung beträgt etwa zwei...Mehr lesen -
Eigenschaften und Anwendungen von Diamantfilmen Kapitel 1
Diamant, der durch starke chemische Bindungen entsteht, besitzt besondere mechanische und elastische Eigenschaften. Härte, Dichte und Wärmeleitfähigkeit von Diamant sind die höchsten aller bekannten Materialien. Diamant weist zudem den höchsten Elastizitätsmodul aller Materialien auf. Der Reibungskoeffizient von Diamant ...Mehr lesen -
Solarzellentypen Kapitel 2
Galliumarsenid (GaAs) III ~ V-Verbindungsbatterien erreichen einen Wirkungsgrad von bis zu 28 %. Das GaAs-Verbindungsmaterial besitzt eine sehr ideale optische Bandlücke sowie eine hohe Absorptionseffizienz, eine starke Strahlungsbeständigkeit und ist unempfindlich gegenüber Hitze. Es eignet sich daher für die Herstellung hocheffizienter Einzelzellen.Mehr lesen -
Solarzellen Typ Kapitel 1
Solarzellen wurden bis zur dritten Generation entwickelt. Die erste Generation umfasst monokristalline Silizium-Solarzellen, die zweite Generation amorphe und polykristalline Silizium-Solarzellen, und die dritte Generation repräsentiert Kupfer-Stahl-Gallium-Selenid (CIGS)...Mehr lesen -
Verfahren zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit von Filmschichten
Die mechanischen Eigenschaften der Membranschicht werden durch Adhäsion, Spannung, Aggregationsdichte usw. beeinflusst. Aus dem Zusammenhang zwischen Membranschichtmaterial und Prozessfaktoren geht hervor, dass zur Verbesserung der mechanischen Festigkeit der Membranschicht folgende Aspekte im Fokus stehen sollten: …Mehr lesen -
Chemische Gasphasenabscheidung
Epitaktisches Wachstum, oft auch einfach Epitaxie genannt, ist eines der wichtigsten Verfahren zur Herstellung von Halbleitermaterialien und -bauelementen. Bei diesem sogenannten epitaktischen Wachstum wird unter bestimmten Bedingungen eine einzelne Schicht eines Produktfilms auf einem Einkristallsubstrat abgeschieden.Mehr lesen -
Arten der CVD-Technologie
Im Allgemeinen lässt sich die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) grob in zwei Typen unterteilen: Zum einen die Dampfabscheidung eines einzelnen Produkts auf einem Substrat, also die Abscheidung einer einkristallinen Epitaxieschicht (im engeren Sinne); zum anderen die Abscheidung dünner Schichten auf einem Substrat, einschließlich Mehrkomponenten- und amorpher Schichten.Mehr lesen -
Transmissions- und Reflexionsspektren und Farbe optischer Dünnschichten Kapitel 2
Daraus ergibt sich Folgendes: (1) Bei Dünnschichtbauelementen besteht ein Zusammenhang zwischen Transmissions- und Reflexionsspektren sowie der Farbe, also einem Farbspektrum. Dieser Zusammenhang ist jedoch nicht eindeutig, sondern manifestiert sich als Farbspektrum. Daher ist der Film...Mehr lesen -
Transmissions- und Reflexionsspektren und Farbe optischer Dünnschichten Kapitel 1
Transmissions- und Reflexionsspektren sowie die Farben optischer Dünnschichten sind zwei gleichzeitig auftretende Eigenschaften von Dünnschichtbauelementen. 1. Das Transmissions- und Reflexionsspektrum beschreibt den Zusammenhang zwischen Reflexion und Transmission optischer Dünnschichtbauelemente und der Wellenlänge. Es ist …Mehr lesen -
AF Dünnschichtverdampfungsanlage für optische PVD-Vakuumbeschichtung
Die optische PVD-Vakuumbeschichtungsanlage von AF Thin Film Evaporation dient der Beschichtung mobiler Geräte mit Dünnschichten mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD). Dabei wird in einer Beschichtungskammer ein Vakuum erzeugt, in dem Feststoffe verdampft und anschließend abgeschieden werden.Mehr lesen -
Aluminium-Silber-Vakuumbeschichtungs-Spiegelherstellungsmaschine
Die Vakuumbeschichtungsanlage für Aluminiumsilber hat die Spiegelherstellungsindustrie mit ihrer fortschrittlichen Technologie und präzisen Konstruktion revolutioniert. Diese hochmoderne Anlage ist darauf ausgelegt, eine dünne Aluminiumsilberschicht auf die Glasoberfläche aufzutragen und so hochwertige Spiegel zu erzeugen.Mehr lesen -
Optische Vakuumbeschichtungsanlage
Die optische Vakuummetallisierungsanlage ist eine hochmoderne Technologie, die die Oberflächenbeschichtungsindustrie revolutioniert hat. Diese fortschrittliche Maschine nutzt ein Verfahren namens optische Vakuummetallisierung, um eine dünne Metallschicht auf verschiedene Substrate aufzubringen und so eine hochreflektierende und widerstandsfähige Oberfläche zu erzeugen.Mehr lesen -
Plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung Kapitel 2
Die meisten chemischen Elemente lassen sich durch Verbindung mit chemischen Gruppen verdampfen, z. B. reagiert Silicium mit Wasserstoff zu SiH₄ und Aluminium mit Methan zu Al(CH₃). Im thermischen CVD-Verfahren absorbieren die genannten Gase beim Durchströmen des erhitzten Substrats eine bestimmte Menge an Wärmeenergie und bilden...Mehr lesen
