Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Machinae Obductionis Antireflectantis
Machinae ad obductionem antireflexam applicandam sunt instrumenta specialia adhibita ad obductionem tenuem et pellucidam in componentibus opticis, ut lentibus, speculis et monitoribus, deponendum, ut reflexio minuatur et transmissio lucis augeatur. Hae obductiones necessariae sunt in variis applicationibus, inter quas optica, ...Plura lege -
Introductio ad Specificationes Functionis Filtri - Caput II
Cum filtra, sicut quodlibet aliud productum ab homine factum, non possint fabricari ad specificationes manualis exacte respondendum, nonnulli valores permissibiles declarandi sunt. Pro filtris angustioris frequentiae, parametri principales quibus tolerantiae dandae sunt sunt: longitudo undae maxima, transmittantia maxima, et latitudo frequentiae,...Plura lege -
Electrodi Vacuum Caloris Obductio
Obductio Vacui Electrodorum est instrumentum speciale ad electrodos vel alia substrata sub vacuo obducenda, saepe cum curatione caloris coniunctum, in applicationibus industrialibus et scientificis adhibitum. Hic processus vulgo in campis sicut electronica, scientia materialium...Plura lege -
Introductio ad Specificationes Functionis Filtri - Caput 1
Specificationes functionis filtri sunt descriptiones necessariae functionis filtri lingua quae facile intelligi potest a designatoribus systematum, usoribus, fabricatoribus filtri, etc. Interdum fabricator filtri specificationes scribit secundum functionem filtri assequibilem. Quaedam...Plura lege -
Systema filtrationis magneticae et obductionis vacui
Filtratio magnetica in systematibus obductionis vacui ad usum camporum magneticorum refertur ad particulas vel contaminantes non desideratos per processum depositionis in ambitu vacuo excludendos. Haec systemata saepe in variis applicationibus industrialibus, ut fabricatione semiconductorum, optica, et...Plura lege -
Tegumentum Reflectoris Pelliculae Metallicae
Argentum olim materia metallica praevalentissima erat usque ad medium decennium 1930, cum praecipua materia pellicularum reflexivarum pro instrumentis opticis praecisionis esset, plerumque chemice in liquido obducta. Methodus chemicae liquidae obductae ad specula producenda ad usum in architectura, et in hoc...Plura lege -
Processus Evaporationis Vacui
Processus depositionis vaporis vacui plerumque purgationem superficiei substrati, praeparationem ante obductionem, depositionem vaporis, onerationem, curationem post obductionem, probationem, et producta perfecta comprehendit. (1) Purgatio superficiei substrati. Parietes camerae vacui, structura substrati et alia superficies olei, rubiginis, re...Plura lege -
Temperatura Evaporationis Strati Pelliculae et Pressio Vaporis
Stratum membranae in fonte evaporationis calefactionis evaporationis particulas membranae in forma atomorum (vel moleculorum) in spatium phasis gaseosae immittere potest. Sub alta temperatura fontis evaporationis, atomi vel moleculae in superficie membranae satis energiae accipiunt ad superandam...Plura lege -
Tegumenta PVD: Evaporatio thermalis et pulverisatio cathodica
Tegumenta PVD (Depositio Vaporis Physica) late adhibentur ad pelliculas tenues et tegumenta superficialia creanda. Inter methodos communes, evaporatio thermalis et pulverisatio cathodica duo processus PVD magni momenti sunt. Hic est analysis utriusque: 1. Principium Evaporationis Thermalis: Materia calefactur...Plura lege -
Votatio Vacui Fasciculi Electronici
Depositio vaporis physica fasciculi electronici (EBPVD) est processus adhibitus ad tenues pelliculas vel obductiones in varias superficies deponendas. Implicat usum fasciculi electronici ad materiam obductionis (ut metallum vel ceramicam) in camera vacui alti calefaciendam et vaporandam. Materia vaporata...Plura lege -
Technologia obductionis PVD in applicatione formae
Sina basis productionis formarum in mundo facta est, portio mercatus formarum plus quam centum miliardorum est, industria formarum fundamentum progressionis industrialis modernae facta est. Recentibus annis, industria formarum Sinarum ad plus quam decem centesimas incrementi annui celeris progressus pervenit. Ergo, quomodo...Plura lege -
Significatio pompae vacui
Vacuum obtinendum etiam "pumpatio vacui" appellatur, quod ad usum variarum antliarum vacui ad aerem intra receptaculum extrahendum refertur, ita ut pressio intra spatium infra unam atmosphaeram descendat. In praesenti, ut vacuum obtineatur, instrumenta communiter adhibita, inter quae sunt rotatoriae...Plura lege -
Processus depositionis vaporis vacui
Processus depositionis vaporis vacui plerumque gradus comprehendit ut purgationem superficiei substrati, praeparationem ante obductionem, depositionem vaporis, collectionem fragmentorum, tractationem post obductionem, probationem, et producta perfecta. (1) Purgatio superficiei substrati. Parietes camerae vacui, structura substrati et alia...Plura lege -
Introductio ad Obductionem Vacuam
Cur Vacuum Utere? Contaminationem Prohibens: In vacuo, absentia aeris aliorumque gasorum impedit ne materia depositionis cum gasibus atmosphaericis reagat, quae pelliculam contaminare possent. Adhaesio Emendata: Absentia aeris significat pelliculam directe substrato adhaerere sine aere...Plura lege -
Technologia Depositionis Pelliculae Tenuis
Depositio pellicularum tenuium est processus fundamentalis adhibitus in industria semiconductorum, necnon in multis aliis campis scientiae et machinationis materialium. Implicat creationem tenuis strati materiae in substrato. Pelliculae depositae possunt habere amplam varietatem crassitudinis, a paucis tantum atomis...Plura lege
