Добро пожаловать в компанию Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Новости
-
Химическое осаждение из паровой фазы
Эпитаксиальный рост, часто также называемый эпитаксией, является одним из важнейших процессов в производстве полупроводниковых материалов и устройств. Так называемый эпитаксиальный рост — это процесс выращивания слоя монокристаллической подложки в определенных условиях, представляющий собой процесс получения монокристаллической пленки...Читать далее -
Виды технологии CVD
В общих чертах, CVD можно условно разделить на два типа: первый — это осаждение монокристаллического эпитаксиального слоя на подложку из паровой фазы, что является узким определением CVD; второй — это осаждение тонких пленок на подложку, включая многокомпонентные и аморфные пленки. В соответствии с...Читать далее -
Спектры пропускания и отражения, а также цвет оптических тонких пленок. Глава 2.
Из этого мы собираемся прояснить: (1) тонкопленочные устройства, спектры пропускания, отражения и цвет имеют соответствующую взаимосвязь, то есть спектр цвета; напротив, эта взаимосвязь «не является единственной», проявляется как многоспектральный цвет. Поэтому пленка...Читать далее -
Спектры пропускания и отражения, а также цвет оптических тонких пленок. Глава 1.
Спектры пропускания и отражения, а также цвета оптических тонких пленок — это две характеристики тонкопленочных устройств, существующие одновременно. 1. Спектр пропускания и отражения — это соотношение между коэффициентами отражения и пропускания оптических тонкопленочных устройств в зависимости от длины волны. Это...Читать далее -
Установка для вакуумного напыления тонких пленок методом PVD (оптическое PVD-покрытие)
Вакуумная установка для нанесения тонких пленок методом испарения (PVD) на мобильные устройства предназначена для нанесения тонких пленок на мобильные устройства с использованием процесса физического осаждения из паровой фазы (PVD). Этот процесс включает создание вакуумной среды внутри камеры нанесения покрытия, где происходит испарение твердых материалов, а затем их осаждение...Читать далее -
станок для производства зеркал с вакуумным напылением из алюминия и серебра
Установка для вакуумного нанесения алюминиево-серебряного покрытия на зеркала произвела революцию в зеркальной промышленности благодаря передовым технологиям и высокоточной инженерии. Эта современная машина предназначена для нанесения тонкого слоя алюминиево-серебряного покрытия на поверхность стекла, создавая высококачественные...Читать далее -
Оптическая вакуумная установка для нанесения покрытий
Оптический вакуумный металлизатор — это передовая технология, совершившая революцию в индустрии нанесения поверхностных покрытий. Эта современная машина использует процесс, называемый оптической вакуумной металлизацией, для нанесения тонкого слоя металла на различные подложки, создавая высокоотражающее и долговечное покрытие...Читать далее -
Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы. Глава 2.
Большинство химических элементов можно испарять, соединяясь с химическими группами, например, Si реагирует с H, образуя SiH4, а Al соединяется с CH3, образуя Al(CH3). В процессе термического CVD указанные газы поглощают определенное количество тепловой энергии, проходя через нагретую подложку и образуя...Читать далее -
Плазменно-усиленное химическое осаждение из паровой фазы. Глава 1.
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Как следует из названия, это технология, использующая газообразные прекурсоры для получения твердых пленок посредством атомных и межмолекулярных химических реакций. В отличие от PVD, процесс CVD в основном проводится в условиях более высокого давления (более низкого вакуума), с...Читать далее -
Элементы процесса и механизмы действия, влияющие на качество тонкопленочных устройств (Часть 2)
3. Влияние температуры субстрата. Температура субстрата является одним из важных условий для роста мембраны. Она обеспечивает дополнительную энергетическую поддержку атомам или молекулам мембраны и в основном влияет на структуру мембраны, коэффициент агглютинации, коэффициент расширения и агрегацию...Читать далее -
Факторы и механизмы, влияющие на качество тонкопленочных устройств (Часть 1)
Изготовление оптических тонкопленочных устройств осуществляется в вакуумной камере, а рост пленочного слоя представляет собой микроскопический процесс. Однако в настоящее время макроскопические процессы, которые можно непосредственно контролировать, — это некоторые макроскопические факторы, имеющие косвенную связь с качеством...Читать далее -
Введение в историю развития технологии испарения.
Процесс нагревания твердых материалов в условиях высокого вакуума для сублимации или испарения и последующего нанесения их на определенную подложку с целью получения тонкой пленки известен как вакуумное напыление (или напыление методом испарения). История получения тонких пленок методом вакуумного напыления...Читать далее -
Введение в ITO-покрытие
Оксид индия-олова (Indium Tin Oxide, также известный как ITO) — это широкозонный, сильно легированный полупроводниковый материал n-типа, обладающий высокой светопропускаемостью в видимом диапазоне и низким сопротивлением, поэтому широко используется в солнечных батареях, плоских дисплеях, электрохромных окнах, неорганических и органических материалах...Читать далее -
Лабораторная вакуумная центрифужная установка для нанесения покрытий.
Лабораторные вакуумные центрифуги являются важными инструментами в области нанесения тонких пленок и модификации поверхности. Это современное оборудование предназначено для точного и равномерного нанесения тонких пленок из различных материалов на подложки. Процесс включает нанесение жидкого раствора или суспензии...Читать далее -
Режим осаждения с помощью ионного пучка и выбор энергии при его применении.
Существует два основных режима осаждения с помощью ионного пучка: динамический гибридный и статический гибридный. В первом случае пленка в процессе роста постоянно подвергается бомбардировке ионами определенной энергии и силы тока; во втором случае пленка предварительно осаждается на поверхности...Читать далее
