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Heißkathodenverstärkung für Magnetron-Sputtern

Artikelquelle: Zhenhua Vacuum
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Veröffentlicht: 23.10.2011

Der Wolframdraht wird auf eine hohe Temperatur erhitzt, wodurch heiße Elektronen emittiert werden, die einen hochdichten Elektronenstrom erzeugen. Gleichzeitig beschleunigt eine Beschleunigungselektrode diese heißen Elektronen zu einem hochenergetischen Elektronenstrom. Dieser hochdichte, hochenergetische Elektronenstrom führt zu einer verstärkten Chloridionisierung und damit zur Ionisierung von mehr Atomen der Metallfilmschicht. Dies erhöht die Anzahl der Chloridionen und somit die Sputterrate, was wiederum die Abscheidungsrate steigert. Gleichzeitig wird die Metallionisierung verstärkt, was die Reaktion bei der Abscheidung des Verbundfilms begünstigt. Die Ionen der Metallfilmschicht erreichen das Werkstück und erhöhen so die Stromdichte am Werkstück, wodurch die Abscheidungsrate ebenfalls gesteigert wird.

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Bei der Hartbeschichtung mittels Magnetron-Sputtern führt die Erhöhung der Stromdichte und die Verbesserung der Schichtstruktur auf der Vorder- und Rückseite des Werkstücks durch die Heißkathode zu einer Steigerung. Vor dem Einsatz der Heißkathode beträgt die Stromdichte auf TiSiCN lediglich 0,2 mA/mm², nach deren Erhöhung steigt sie auf 4,9 mA/mm², was einer Steigerung um das ca. 24-Fache entspricht. Gleichzeitig wird die Schichtstruktur dichter. Es zeigt sich, dass der Einsatz einer Heißkathode in der Magnetron-Sputtertechnologie die Abscheidungsrate und die Aktivität der Schichtpartikel deutlich verbessert. Diese Technologie kann die Lebensdauer von Turbinenschaufeln, Kolben von Schlammpumpen und Schleifmaschinenteilen signifikant verlängern.

–Dieser Artikel wurde veröffentlicht vonHersteller von VakuumbeschichtungsmaschinenGuangdong Zhenhua

 

 


Veröffentlichungsdatum: 11. Oktober 2023