Pagpalambo sa init nga katodo para sa magnetron sputtering

Ang tungsten filament gipainit sa taas nga temperatura nga mopagawas ug init nga mga electron aron mopagawas ug taas nga densidad nga electron stream, ug sa samang higayon usa ka accelerating electrode ang gitakda aron mapadali ang init nga mga electron ngadto sa taas nga enerhiya nga electron stream. Ang taas nga densidad ug taas nga enerhiya nga electron flow mahimong mas daghan ang chlorine ionization, mas daghang metal film layer atoms ang ionized aron makakuha ug dugang chloride ions aron mapaayo ang sputtering rate, sa ingon nagdugang ang deposition rate: mahimong mas daghang metal ionization aron mapaayo ang metal ionization rate, nga makatabang sa reaksyon sa deposition sa compound film; ang metal film layer ions aron makaabot sa workpiece aron mapaayo ang current density sa workpiece, sa ingon nagdugang ang deposition rate.

Sa magnetron sputtering hard coating, motaas ang current density ug film organization sa atubangan ug likod sa workpiece sa hot cathodizing. Sa TiSiCN sa dili pa idugang ang hot cathode, ang current density sa workpiece kay 0.2mA/mm lang, human sa pagsaka sa hot cathode ngadto sa 4.9mA/mm2, nga katumbas sa pagsaka og 24 ka pilo, ug ang film organization mas dasok. Makita nga sa magnetron sputtering coating technology, ang pagdugang og hot cathode epektibo kaayo sa pagpaayo sa magnetron sputtering deposition rate ug sa kalihokan sa film particles. Kini nga teknolohiya makapauswag pag-ayo sa kinabuhi sa mga turbine blades, mud pump plunger, ug grinder parts.

–Kini nga artikulo gipagawas nitiggama og vacuum coating machineGuangdong Zhenhua