Hoʻonui ʻia ka cathode wela no ka magnetron sputtering

Hoʻomehana ʻia ke kaula tungsten i kahi mahana kiʻekiʻe e hoʻopuka i nā electrons wela e hoʻopuka i kahi kahawai electron kiʻekiʻe-density, a i ka manawa like ua hoʻonohonoho ʻia kahi electrode wikiwiki e hoʻolalelale i nā electrons wela i loko o kahi kahawai electron ikehu kiʻekiʻe. Hiki i ke kahe electron kiʻekiʻe-density, ikehu kiʻekiʻe ke ʻoi aku ka ionization chlorine, ʻoi aku ka nui o nā ʻātoma papa kiʻiʻoniʻoni metala i ionized e loaʻa ai nā ion chloride hou aʻe e hoʻomaikaʻi i ka wikiwiki sputtering, a laila e hoʻonui ai i ka wikiwiki deposition: hiki ke ʻoi aku ka nui o ka ionization metala e hoʻomaikaʻi i ka wikiwiki ionization metala, e kūpono ana i ka hopena o ka deposition o ka kiʻiʻoniʻoni hui; nā ion papa kiʻiʻoniʻoni metala e hiki i ka workpiece e hoʻomaikaʻi i ka density o kēia manawa o ka ʻāpana hana, a laila e hoʻonui ai i ka wikiwiki deposition.

I loko o ka uhi paʻakikī o ka magnetron sputtering, Hoʻonui i ka nui o ke au a me ka hoʻonohonoho ʻana o ka ʻili o ka workpiece mua a me hope o ka cathodizing wela. Ma mua o ka hoʻohui ʻana o ka cathode wela, ʻo ka nui o ke au ma ka workpiece he 0.2mA/mm wale nō, ma hope o ka hoʻonui ʻana o ka cathode wela i 4.9mA/mm2, ʻo ia hoʻi ka hoʻonui ʻana o 24 mau manawa a i ʻole, a ʻoi aku ka nui o ka hoʻonohonoho ʻana o ka ʻili. Hiki ke ʻike ʻia i loko o ka ʻenehana uhi magnetron sputtering, ʻo ka hoʻohui ʻana o kahi cathode wela he mea maikaʻi loa ia i ka hoʻomaikaʻi ʻana i ka helu hoʻokaʻawale magnetron sputtering a me ka hana o nā ʻāpana ʻili. Hiki i kēia ʻenehana ke hoʻomaikaʻi nui i ke ola o nā lau turbine, nā plungers pamu mud, a me nā ʻāpana wili.

–Ua hoʻokuʻu ʻia kēia ʻatikala emea hana mīkini uhi hakahakaGuangdong Zhenhua