Ang tungsten filament ay pinainit sa mataas na temperatura na naglalabas ng mainit na mga electron upang maglabas ng high-density na daloy ng electron, at kasabay nito ay isang accelerating electrode ang nakatakda upang mapabilis ang mainit na mga electron sa isang high-energy na daloy ng electron. Ang high-density at high-energy na daloy ng electron ay maaaring magkaroon ng mas maraming chlorine ionization, mas maraming metal film layer atoms ang na-ionize upang makakuha ng mas maraming chloride ions upang mapabuti ang sputtering rate, sa gayon ay pinapataas ang deposition rate: maaaring magkaroon ng mas maraming metal ionization upang mapabuti ang metal ionization rate, na nakakatulong sa reaksyon ng deposition ng compound film; ang metal film layer ions ay umaabot sa workpiece upang mapabuti ang current density ng workpiece, sa gayon ay pinapataas ang deposition rate.
Sa hard coating na magnetron sputtering, tumataas ang current density at film organization ng harap at likod ng workpiece sa hot cathodizing. Bago idagdag ang hot cathode gamit ang TiSiCN, ang current density sa workpiece ay 0.2mA/mm lamang, pagkatapos tumaas ang hot cathode sa 4.9mA/mm2, na katumbas ng pagtaas ng humigit-kumulang 24 na beses, at mas siksik ang film organization. Makikita na sa teknolohiya ng magnetron sputtering coating, ang pagdaragdag ng hot cathode ay napakaepektibo sa pagpapabuti ng magnetron sputtering deposition rate at ang aktibidad ng mga film particle. Ang teknolohiyang ito ay maaaring makabuluhang mapabuti ang buhay ng mga turbine blade, mud pump plunger, at mga bahagi ng grinder.
–Inilabas ang artikulong ito nitagagawa ng vacuum coating machineGuangdong Zhenhua
Oras ng pag-post: Oktubre-11-2023