Filamén tungsten dipanaskeun kana suhu anu luhur anu ngaluarkeun éléktron panas pikeun ngaluarkeun aliran éléktron kapadetan luhur, sareng dina waktos anu sami éléktroda anu ngagancangkeun disetel pikeun ngagancangkeun éléktron panas kana aliran éléktron énergi luhur. Aliran éléktron kapadetan luhur sareng énergi luhur tiasa langkung seueur ionisasi klorin, langkung seueur atom lapisan pilem logam anu diionisasi pikeun kéngingkeun langkung seueur ion klorida pikeun ningkatkeun laju sputtering, sahingga ningkatkeun laju déposisi: tiasa langkung seueur ionisasi logam pikeun ningkatkeun laju ionisasi logam, anu kondusif pikeun réaksi déposisi pilem sanyawa; ion lapisan pilem logam pikeun ngahontal benda kerja pikeun ningkatkeun kapadetan arus benda kerja, sahingga ningkatkeun laju déposisi.
Dina palapis teuas magnetron sputtering, kapadetan arus sareng organisasi pilem hareup sareng tukang benda kerja ningkat. TiSiCN sateuacan ditambahkeun katoda panas, kapadetan arus dina benda kerja ngan ukur 0,2mA/mm, saatos kanaékan katoda panas janten 4,9mA/mm2, anu sami sareng paningkatan 24 kali atanapi langkung, sareng organisasi pilem langkung padet. Éta tiasa katingali yén dina téknologi palapis magnetron sputtering, panambahan katoda panas épéktip pisan dina ningkatkeun laju déposisi magnetron sputtering sareng aktivitas partikel pilem. Téhnologi ieu tiasa ningkatkeun umur bilah turbin, plunger pompa leutak, sareng bagian panggiling sacara signifikan.
–Tulisan ieu dipedalkeun kuprodusén mesin palapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktos posting: 11-Okt-2023