Reaktivní magnetronové naprašování znamená, že se během procesu naprašování přivádí reaktivní plyn, který reaguje s naprašovanými částicemi a vytváří složený film. Může současně dodávat reaktivní plyn, který reaguje s naprašovaným sloučeninovým terčem, a také může dodávat reaktivní plyn, který reaguje s naprašovaným kovovým nebo slitinovým terčem, čímž se připraví sloučeninový film s daným chemickým poměrem. Charakteristiky reaktivního magnetronového naprašování pro přípravu sloučeninových filmů jsou:
(1) Cílové materiály používané pro reaktivní magnetronové naprašování (jednoprvkový nebo víceprvkový terč) a reakční plyny se snadno dosáhnou vysoké čistoty, což vede k přípravě vysoce čistých sloučeninových filmů.
(2) Při reaktivním magnetronovém naprašování lze úpravou parametrů procesu nanášení připravit chemické nebo nechemické poměry složených filmů, čímž se dosáhne cíle regulace vlastností filmu úpravou jeho složení.
(3) Teplota substrátu během procesu reaktivního magnetronového naprašování obvykle není příliš vysoká a proces tvorby filmu obvykle nevyžaduje zahřívání substrátu na velmi vysoké teploty, takže existuje méně omezení ohledně materiálu substrátu.
(4) Reaktivní magnetronové naprašování je vhodné pro přípravu homogenních tenkých vrstev s velkou plochou a umožňuje dosáhnout průmyslové výroby s ročním výkonem jednoho milionu metrů čtverečních povlaku z jediného stroje. V mnoha případech lze povahu vrstvy změnit pouhou změnou poměru reaktivního plynu k inertnímu plynu během naprašování. Například lze měnit vrstvu z kovu na polovodič nebo nekov.
——Tento článek mávýrobce vakuových lakovacích strojůGuangdong Zhenhua propuštěn
Čas zveřejnění: 31. srpna 2023