A sputtering reattivu di magnetron significa chì u gasu reattivu hè furnitu per reagisce cù e particelle sputterizzate in u prucessu di sputtering per pruduce un filmu cumpostu. Pò furnisce gasu reattivu per reagisce cù u bersagliu di u cumpostu di sputtering à u listessu tempu, è pò ancu furnisce gasu reattivu per reagisce cù u bersagliu di metallu o lega di sputtering à u listessu tempu per preparà un filmu cumpostu cù un rapportu chimicu datu. E caratteristiche di a sputtering reattivu di magnetron per preparà filmi cumposti sò:
(1) I materiali di destinazione utilizati per u sputtering di magnetron reattivu (bersaghju à un elementu o bersaghju multi-elementu) è i gasi di reazione sò faciuli d'ottene una alta purezza, chì hè propizia à a preparazione di filmi cumposti di alta purezza.
(2) In u sputtering di magnetron reattivu, aghjustendu i parametri di u prucessu di deposizione, si pò preparà u rapportu chimicu o u rapportu non chimicu di i filmi cumposti, in modu da ottene u scopu di regulà e caratteristiche di u film aghjustendu a cumpusizione di u film.
(3) A temperatura di u sustratu ùn hè generalmente micca troppu alta durante u prucessu di deposizione per sputtering reattivu di magnetron, è u prucessu di furmazione di film di solitu ùn richiede micca chì u sustratu sia riscaldatu à temperature assai elevate, dunque ci sò menu restrizioni nantu à u materiale di u sustratu.
(4) A sputtering reattivu di magnetron hè adatta per a preparazione di film sottili omogenei di grande superficia, è pò ottene una pruduzzione industrializzata cù una pruduzzione annuale di un milione di metri quadrati di rivestimentu da una sola macchina. In parechji casi, a natura di u film pò esse cambiata semplicemente cambiendu u rapportu trà gas reattivu è gas inerte durante a sputtering. Per esempiu, u film pò esse cambiatu da metallu à semiconduttore o non metallu.
——Questu articulu hàfabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua liberatu
Data di publicazione: 31 d'aostu 2023