Ion beam የታገዘ ማስቀመጫ እና ዝቅተኛ የኃይል ion ምንጭ

1.Ion beam የታገዘ ማስቀመጫ በዋናነት ዝቅተኛ ኃይል ion ጨረሮችን ይጠቀማል የቁሳቁሶችን ወለል ለማሻሻል ይረዳል።

(፩) ion የታገዘ ተቀማጭ ገንዘብ ባህሪያት

በሽፋኑ ሂደት ውስጥ, የተከማቸ የፊልም ቅንጣቶች በተከታታይ በተሞሉ የ ion ጨረሮች እየተሸፈኑ በንፅፅር ወለል ላይ ካለው የ ion ምንጭ በተሞሉ ionዎች ይሞላሉ.

(2) የ ion ረዳት ማስቀመጫ ሚና

ከፍተኛ የኢነርጂ ionዎች በቀላሉ የታሰሩ የፊልም ቅንጣቶችን በማንኛውም ጊዜ ይደበድባሉ; ኃይልን በማስተላለፍ የተቀመጡት ቅንጣቶች የበለጠ የኪነቲክ ኃይል ያገኛሉ, በዚህም የኑክሌር እና የእድገት ህግን ያሻሽላል; ፊልሙ የበለጠ ጥቅጥቅ ያለ እንዲያድግ በማድረግ, በማንኛውም ጊዜ ገለፈት ቲሹ ላይ compaction ውጤት ለማምረት; አጸፋዊ ጋዝ አየኖች በመርፌ ከሆነ, stoichiometric ውሁድ ንብርብር ቁሳዊ ላይ ላዩን ሊፈጠር ይችላል, እና ውህድ ንብርብር እና substrate መካከል ምንም በይነገጽ የለም.

2. Ion ምንጭ ለ ion beam የታገዘ ማስቀመጫ

የ ion beam አጋዥ አቀማመጥ ባህሪ የፊልም ንብርብር አተሞች (የተቀማጭ ቅንጣቶች) ከ ion ምንጭ በታችኛው ክፍል ላይ ባለው ዝቅተኛ የኃይል ionዎች ያለማቋረጥ በቦምብ ይሞላሉ ፣ ይህም የፊልም አወቃቀሩ በጣም ጥቅጥቅ ያለ እና የፊልም ንብርብር አፈፃፀምን ያሻሽላል። የ ion ጨረር ኃይል ኢ ≤ 500eV ነው. በብዛት ጥቅም ላይ የዋሉ የ ion ምንጮች የሚከተሉትን ያጠቃልላሉ፡ Kauffman ion source, Hall ion source, anode layer ion source, hollow cathode Hall ion source, radiofrequency ion source, etc