በአጸፋዊ ማግኔትሮን መትፋት የሚዘጋጁ የተዋሃዱ ስስ ፊልሞች ባህሪ

Reactive magnetron sputtering ማለት ውሁድ ፊልም ለማምረት በሚረጩበት ሂደት ውስጥ ከተረፉ ቅንጣቶች ጋር ምላሽ ለመስጠት ምላሽ ሰጪ ጋዝ ይቀርባል ማለት ነው። ከተረጨው ውህድ ውህድ ኢላማ ጋር ምላሽ ለመስጠት አጸፋዊ ጋዝ ሊያቀርብ ይችላል፣ እንዲሁም ከተረጨው ብረት ወይም ቅይጥ ኢላማ ጋር በተመሳሳይ ጊዜ ምላሽ የሚሰጥ ጋዝ ማቅረብ ይችላል።

(1) ለ reactive magnetron sputtering (ነጠላ ኤለመንት ዒላማ ወይም ባለብዙ-ንጥረ-ነገር ዒላማ) እና ምላሽ ጋዞች ጥቅም ላይ የሚውሉት የዒላማ ቁሳቁሶች ከፍተኛ ንፅህናን ለማግኘት ቀላል ናቸው, ይህም ከፍተኛ ንፅህና የተዋሃዱ ፊልሞችን ለማዘጋጀት ተስማሚ ነው.

(2) አጸፋዊ magnetron sputtering ውስጥ, ተቀማጭ ሂደት መለኪያዎች በማስተካከል, የኬሚካል ሬሾ ወይም ያልሆኑ ኬሚካላዊ ውሁድ ፊልሞች ሬሾ ማዘጋጀት ይቻላል, ስለዚህም ፊልም ስብጥር በማስተካከል የፊልም ባህሪያትን የመቆጣጠር ዓላማን ለማሳካት.

(3) በምላሽ ማግኔትሮን በሚተነፍሰው የማስቀመጫ ሂደት ውስጥ የሙቀቱ የሙቀት መጠን በአጠቃላይ በጣም ከፍተኛ አይደለም እና የፊልም አፈጣጠር ሂደት ብዙውን ጊዜ ንጣፉን በጣም ከፍተኛ በሆነ የሙቀት መጠን እንዲሞቅ አይፈልግም ፣ ስለሆነም በንጥረ ነገሮች ላይ ያነሱ ገደቦች አሉ።

(4) Reactive magnetron sputtering ትልቅ ስፋት ያላቸው ተመሳሳይ የሆኑ ስስ ፊልሞችን ለማዘጋጀት ተስማሚ ነው፣ እና ከአንድ ማሽን አንድ ሚሊዮን ካሬ ሜትር ሽፋን ባለው አመታዊ ምርት በኢንዱስትሪ የበለፀገ ምርት ማግኘት ይችላል። በአብዛኛዎቹ ሁኔታዎች, በሚረጭበት ጊዜ ምላሽ ሰጪ ጋዝ እና የማይነቃነቅ ጋዝ ሬሾን በቀላሉ በመቀየር የፊልሙን ተፈጥሮ መለወጥ ይችላሉ። ለምሳሌ, ፊልሙ ከብረት ወደ ሴሚኮንዳክተር ወይም ብረት ያልሆነ መቀየር ይቻላል.

——ይህ ጽሑፍ አለው።የቫኩም ሽፋን ማሽን አምራችጓንግዶንግ ዜንዋ ተለቋል