ئومۇمەن قىلىپ ئېيتقاندا، CVD نى تەخمىنەن ئىككى تۈرگە بۆلۈشكە بولىدۇ: بىرى، يەككە مەھسۇلاتتا ئاساسىي قاتلامدىكى يەككە كرىستاللىق ئېپىتاكسىيال قەۋەتنىڭ پارغا چۆكۈشى، يەنى تار CVD؛ يەنە بىرى، ئاساسىي قاتلامغا نېپىز پەردىلەرنىڭ چۆكۈشى، بۇنىڭ ئىچىدە كۆپ مەھسۇلاتلىق ۋە ئامورف پەردىلەر بار. ئىشلىتىلگەن گاز مەنبەلىرىنىڭ تۈرىگە ئاساسەن، CVD گالوگېن توشۇش ئۇسۇلى ۋە مېتال-ئورگانىك خىمىيىلىك پارغا چۆكۈش (MOCVD) گە ئايرىلىدۇ، بىرىنچىسى گاز مەنبەسى سۈپىتىدە گالىدقا، كېيىنكىسى گاز مەنبەسى سۈپىتىدە مېتال-ئورگانىك بىرىكمىلەرگە ئايلىنىدۇ. رېئاكسىيە كامېراسىدىكى بېسىمغا ئاساسەن، ئۇنى ئۈچ ئاساسلىق تۈرگە بۆلۈشكە بولىدۇ: ئاتموسفېرا بېسىملىق CVD (APCVD)، تۆۋەن بېسىملىق CVD (LPCVD) ۋە ئۇلترا يۇقىرى ۋاكۇئۇملۇق CVD (UHV/CVD). CVD يەنە ئېنېرگىيە كۈچەيتىلگەن ياردەمچى ئۇسۇل سۈپىتىدە ئىشلىتىلىشى مۇمكىن، ھازىر كۆپ ئۇچرايدىغانلىرى پلازما كۈچەيتىلگەن CVD (PECVD) ۋە يورۇقلۇق كۈچەيتىلگەن CVD (PCVD) قاتارلىقلارنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ. CVD ئاساسەن گاز باسقۇچىدىكى چۆكۈش ئۇسۇلى.
CVD ئاساسەن بىر خىل پەردە شەكىللەندۈرۈش ئۇسۇلى بولۇپ، بۇ ئۇسۇلدا گاز ھالىتىدىكى ماددىنىڭ يۇقىرى تېمپېراتۇرىدا خىمىيىلىك رېئاكسىيەگە ئۇچرىشى ئارقىلىق قاتتىق ماددا ھاسىل قىلىنىدۇ، بۇ ماددا ئاساسىي قاتلامغا چۆكۈپ قالىدۇ. ئېنىق قىلىپ ئېيتقاندا، ئۇچۇچان مېتال گالىدلىرى ياكى مېتال ئورگانىك بىرىكمىلىرى H، Ar ياكى N قاتارلىق توشۇغۇچى گاز بىلەن ئارىلاشتۇرۇلۇپ، ئاندىن رېئاكسىيە كامېراسىدىكى يۇقىرى تېمپېراتۇرىلىق ئاساسىي قاتلامغا تەكشى يەتكۈزۈلۈپ، خىمىيىلىك رېئاكسىيە ئارقىلىق ئاساسىي قاتلامدا نېپىز پەردە ھاسىل قىلىنىدۇ. قايسى خىل CVD بولۇشىدىن قەتئىينەزەر، چۆكۈش مۇۋەپپەقىيەتلىك ئېلىپ بېرىلىشى ئۈچۈن تۆۋەندىكى ئاساسىي شەرتلەرگە ئۇيغۇن كېلىشى كېرەك: بىرىنچى، چۆكۈش تېمپېراتۇرىسىدا، رېئاكسىيە قىلغۇچى ماددىلارنىڭ پار بېسىمى يېتەرلىك يۇقىرى بولۇشى كېرەك؛ ئىككىنچى، رېئاكسىيە مەھسۇلاتى، قاتتىق ھالەت ئۈچۈن ئېھتىياجلىق چۆكۈشتىن باشقا، قالغان گاز ھالىتى؛ ئۈچىنچى، چۆكۈشنىڭ ئۆزى يېتەرلىك دەرىجىدە تۆۋەن پار بېسىمىغا ئىگە بولۇشى كېرەك، بۇ چۆكۈش رېئاكسىيە جەريانىنىڭ قىزىتىلغان ئاساسىي قاتلامنىڭ پۈتۈن جەريانىدا ساقلىنىشىغا كاپالەتلىك قىلىدۇ؛ تۆتىنچى، ئاساسىي قاتلام ماتېرىيالى خىمىيىلىك رېئاكسىيە ئارقىلىق ئاساسىي قاتلامدىكى رېئاكسىيە كامېراسىغا تەكشى يەتكۈزۈلۈپ، نېپىز پەردە ھاسىل قىلىدۇ. تۆتىنچى، ئاساسىي قاتلام ماتېرىيالىنىڭ ئۆزىنىڭ پار بېسىمى چۆكۈش تېمپېراتۇرىسىدا يېتەرلىك دەرىجىدە تۆۋەن بولۇشى كېرەك.
– بۇ ماقالە ئېلان قىلىندى byۋاكۇئۇم قاپلاش ماشىنىسى ئىشلەپچىقارغۇچىگۇاڭدۇڭ جېنخۇا
ئېلان قىلىنغان ۋاقىت: 2024-يىلى 5-ئاينىڭ 4-كۈنى

