Гомумән алганда, CVD якынча ике төргә бүленергә мөмкин: берсе - субстрат өстендә бер продуктлы пар белән монокристалл эпитаксиаль катламны урнаштыру, ул тар CVD; икенчесе - субстрат өстендә юка пленкалар урнаштыру, шул исәптән күп продуктлы һәм аморф пленкалар. Кулланылган чыганак газларының төрле төрләренә карап, CVD галоген транспорты ысулына һәм металл-органик химик пар урнаштыруга (MOCVD) бүленергә мөмкин, беренчесе газ чыганагы буларак галогенидка, икенчесе газ чыганагы буларак металл-органик кушылмаларга. Реакция камерасындагы басымга карап, аны өч төп төргә бүлергә мөмкин: атмосфера басымы CVD (APCVD), түбән басымлы CVD (LPCVD) һәм ультра югары вакуумлы CVD (UHV/CVD). CVD шулай ук энергияне көчәйтүче ярдәмче ысул буларак та кулланылырга мөмкин, һәм хәзерге вакытта киң таралганнары плазма белән көчәйтелгән CVD (PECVD) һәм яктылык белән көчәйтелгән CVD (PCVD) һ.б.ны үз эченә ала. CVD, нигездә, газ фазасындагы урнаштыру ысулы.
CVD, нигездә, пленка формалаштыру ысулы булып тора, анда газ фазасындагы матдә югары температурада химик реакциягә кереп, субстратка утыртылган каты матдә барлыкка килә. Аерым алганда, очучан металл галогенидлары яки металл органик кушылмалары H, Ar яки N кебек ташучы газ белән кушыла, аннары реакция камерасындагы югары температуралы субстратка тигез рәвештә күчерелә, химик реакция аша субстратта юка пленка барлыкка китерә. CVD төренә карамастан, утырту уңышлы башкарылырга мөмкин, түбәндәге төп шартларга туры килергә тиеш: Беренчедән, утырту температурасында реагентларның пар басымы җитәрлек югары булырга тиеш; Икенчедән, реакция продукты, каты халәт өчен кирәкле утырмадан тыш, газ халәтенең калган өлеше; Өченчедән, утыртуның үзе җылытылган субстратның бөтен процессында утырту реакциясе процессын саклап калу өчен җитәрлек түбән пар басымына ия булырга тиеш; Дүртенчедән, субстрат материалы химик реакция аша субстраттагы реакция камерасына тигез рәвештә күчерелә, юка пленка барлыкка китерә. Дүртенчедән, субстрат материалының үзенең пар басымы да утырту температурасында җитәрлек түбән булырга тиеш.
– Бу мәкалә басылып чыкты byвакуум каплау машинасы җитештерүчесеГуандун Чжэнхуа
Бастырылган вакыты: 2024 елның 4 мае