CVD టెక్నాలజీ రకాలు

స్థూలంగా చెప్పాలంటే, CVDని దాదాపుగా రెండు రకాలుగా విభజించవచ్చు: ఒకటి సబ్‌స్ట్రేట్‌పై సింగిల్-క్రిస్టల్ ఎపిటాక్సియల్ పొరను ఆవిరి పద్ధతిలో నిక్షేపించడం, దీనిని సంకుచితంగా CVD అని పిలుస్తారు; మరొకటి సబ్‌స్ట్రేట్‌పై పలుచని పొరలను నిక్షేపించడం, ఇందులో బహుళ-ఉత్పత్తులు మరియు అమార్ఫస్ పొరలు కూడా ఉంటాయి. ఉపయోగించే వివిధ రకాల మూల వాయువులను బట్టి, CVDని హాలోజన్ రవాణా పద్ధతి మరియు మెటల్-ఆర్గానిక్ కెమికల్ వేపర్ డిపోజిషన్ (MOCVD)గా విభజించవచ్చు, ఇందులో మొదటిది హాలైడ్‌ను వాయు మూలంగా ఉపయోగిస్తుంది, రెండవది మెటల్-ఆర్గానిక్ సమ్మేళనాలను వాయు మూలంగా ఉపయోగిస్తుంది. రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లోని పీడనాన్ని బట్టి, దీనిని మూడు ప్రధాన రకాలుగా విభజించవచ్చు: అట్మాస్ఫియరిక్ ప్రెజర్ CVD (APCVD), లో ప్రెజర్ CVD (LPCVD) మరియు అల్ట్రా-హై వాక్యూమ్ CVD (UHV/CVD). CVDని శక్తిని పెంచే సహాయక పద్ధతిగా కూడా ఉపయోగించవచ్చు, మరియు ఈ రోజుల్లో సాధారణంగా ఉపయోగించే వాటిలో ప్లాస్మా-ఎన్‌హాన్స్‌డ్ CVD (PECVD) మరియు లైట్-ఎన్‌హాన్స్‌డ్ CVD (PCVD) మొదలైనవి ఉన్నాయి. CVD అనేది ప్రాథమికంగా ఒక వాయు-దశ నిక్షేపణ పద్ధతి.

CVD అనేది ప్రాథమికంగా ఒక ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్ పద్ధతి, దీనిలో వాయు స్థితిలో ఉన్న పదార్థం అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద రసాయనికంగా చర్య జరిపి ఒక ఘన పదార్థాన్ని ఉత్పత్తి చేస్తుంది, దానిని ఒక సబ్‌స్ట్రేట్‌పై పూతగా వేస్తారు. ప్రత్యేకంగా, బాష్పీభవనశీల లోహ హాలైడ్‌లు లేదా లోహ సేంద్రీయ సమ్మేళనాలను H, Ar, లేదా N వంటి వాహక వాయువుతో కలిపి, ఆపై ఒక రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లోని అధిక-ఉష్ణోగ్రత సబ్‌స్ట్రేట్‌కు ఏకరీతిగా రవాణా చేసి, రసాయన చర్య ద్వారా సబ్‌స్ట్రేట్‌పై ఒక పలుచని పొరను ఏర్పరుస్తారు. ఏ రకమైన CVD అయినా, పూతను విజయవంతంగా నిర్వహించడానికి ఈ క్రింది ప్రాథమిక పరిస్థితులు తప్పనిసరిగా పాటించాలి: మొదటిది, పూత ఉష్ణోగ్రత వద్ద, చర్యలో పాల్గొనే పదార్థాలు తగినంత అధిక బాష్ప పీడనాన్ని కలిగి ఉండాలి; రెండవది, చర్య ఫలితంగా ఏర్పడిన ఉత్పత్తి, ఆశించిన పూతతో పాటు ఘన స్థితిలో, మిగిలినది వాయు స్థితిలో ఉండాలి; మూడవది, పూత యొక్క బాష్ప పీడనం తగినంత తక్కువగా ఉండాలి, తద్వారా వేడిచేసిన సబ్‌స్ట్రేట్‌పై పూత చర్య ప్రక్రియ మొత్తం కొనసాగేలా చూడవచ్చు; నాలుగవది, సబ్‌స్ట్రేట్ పదార్థం ఏకరీతిగా రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లోని సబ్‌స్ట్రేట్‌కు రవాణా చేయబడి, రసాయన చర్య ద్వారా ఒక పలుచని పొరను ఏర్పరుస్తుంది. పూత ఉష్ణోగ్రత వద్ద సబ్‌స్ట్రేట్ పదార్థం యొక్క బాష్ప పీడనం కూడా తగినంత తక్కువగా ఉండాలి.

–ఈ వ్యాసం విడుదల చేయబడింది byవాక్యూమ్ కోటింగ్ మెషిన్ తయారీదారుగ్వాంగ్‌డాంగ్ జెన్‌హువా