Teknologjia e depozitimit të asistuar nga rrezet jonike

Në fakt, teknologjia e depozitimit të asistuar nga rrezet jonike është një teknologji kompozite. Është një teknikë trajtimi sipërfaqësor kompozit me jone që kombinon implantimin e jonit dhe teknologjinë e filmit të depozitimit fizik të avullit, si dhe një lloj të ri të teknikës së optimizimit të sipërfaqes me rreze jonike. Përveç avantazheve të depozitimit fizik të avullit, kjo teknikë mund të rrisë vazhdimisht çdo trashësi filmi në kushte kontrolli më të rrepta, të përmirësojë kristalinitetin dhe orientimin e shtresës së filmit në mënyrë më të konsiderueshme, të rrisë forcën e ngjitjes së shtresës/substratit të filmit, të përmirësojë dendësinë e shtresës së filmit dhe të sintetizojë filma të përbërë me raporte ideale stekiometrike afër temperaturës së dhomës, duke përfshirë lloje të reja filmash që nuk mund të merren në temperaturën dhe presionin e dhomës. Depozitimi i asistuar nga rrezet jonike jo vetëm që ruan avantazhet e procesit të implantimit të jonit, por gjithashtu mund ta mbulojë substratin me një film krejtësisht të ndryshëm nga substrati.
Në të gjitha llojet e depozitimit fizik të avujve dhe depozitimit kimik të avujve, një grup armësh ndihmëse jonike bombardimi mund të shtohen për të formuar një sistem IBAD, dhe ekzistojnë dy procese të përgjithshme IBAD si më poshtë, siç tregohet në Fig:

Siç tregohet në Fig. (a), një burim avullimi me rreze elektroni përdoret për të rrezatuar shtresën e filmit me rrezen jonike të emetuar nga arma jonike, duke realizuar kështu depozitimin e asistuar nga rrezet jonike. Avantazhi është se energjia dhe drejtimi i rrezes jonike mund të rregullohen, por vetëm një aliazh i vetëm ose i kufizuar, ose përbërës mund të përdoret si burim avullimi, dhe presioni i avullit të secilit përbërës të aliazhit dhe përbërësit është i ndryshëm, gjë që e bën të vështirë marrjen e shtresës së filmit të përbërjes origjinale të burimit të avullimit.
Figura (b) tregon depozitimin e asistuar nga spërkatja me rreze jonike, e cila njihet edhe si depozitim me spërkatje të dyfishtë me rreze jonike, në të cilin objektivi është bërë nga materiali i veshjes me spërkatje me rreze jonike, produktet e spërkatjes përdoren si burim. Gjatë depozitimit të tij në substrat, depozitimi i asistuar nga spërkatja me rreze jonike arrihet me anë të rrezatimit me një burim tjetër jonik. Avantazhi i kësaj metode është se vetë grimcat e spërkatura kanë një energji të caktuar, kështu që ka ngjitje më të mirë me substratin; çdo përbërës i objektivit mund të veshet me spërkatje, por gjithashtu mund të spërkatet me reagim në film, është e lehtë të rregullohet përbërja e filmit, por efikasiteti i tij i depozitimit është i ulët, objektivi është i shtrenjtë dhe ka probleme të tilla si spërkatja selektive.