Ní gidi, ìmọ̀ ẹ̀rọ ìtọ́jú ion beam assisted deposition jẹ́ ìmọ̀ ẹ̀rọ ìṣọ̀kan. Ó jẹ́ ìmọ̀ ẹ̀rọ ìtọ́jú ion surface infiltration àti physical vapor deposition film, àti irú tuntun ti ion beam optimization dada. Ní àfikún sí àwọn àǹfààní ti physical vapor deposition, ọ̀nà yìí lè máa mú kí fíìmù sisanra èyíkéyìí dàgbà lábẹ́ àwọn ipò ìṣàkóso tó le koko jù, mú kí kirisita àti ìtọ́sọ́nà ti fíìmù náà sunwọ̀n síi, mú kí agbára ìdènà ti fíìmù/substrate pọ̀ sí i, mú kí ìfúnpọ̀ fíìmù náà sunwọ̀n sí i, kí ó sì ṣe àkójọpọ̀ fíìmù pẹ̀lú àwọn stoichiometric ratios tó dára jùlọ ní ìwọ̀n otútù yàrá, pẹ̀lú àwọn irú fíìmù tuntun tí a kò le rí ní ìwọ̀n otútù yàrá àti ìfúnpọ̀. Ìtọ́jú ion beam assisted kìí ṣe pé ó ń pa àwọn àǹfààní ti ilana ìtọ́jú ion mọ́ nìkan, ṣùgbọ́n ó tún le bo substrate náà pẹ̀lú fíìmù tó yàtọ̀ pátápátá sí substrate.
Nínú gbogbo onírúurú ìforúkọsílẹ̀ èéfín àti ìforúkọsílẹ̀ èéfín kẹ́míkà, a lè fi àwọn ìbọn amúṣẹ́gun ion auxiliary bombering kún un láti ṣẹ̀dá ètò IBAD, àti pé àwọn ìlànà IBAD méjì ló wà níbí yìí, gẹ́gẹ́ bí a ṣe fihàn nínú àwòrán náà:
Gẹ́gẹ́ bí a ṣe fihàn nínú Pic (a), a lo orísun ìtújáde ìtànṣán ìtànṣán elekitironi láti tan ìmọ́lẹ̀ sí ìpele fíìmù náà pẹ̀lú ìtànṣán ion tí ó jáde láti inú ìbọn ion, nípa bẹ́ẹ̀ a lè rí ìdúró ion tí ó ran ion lọ́wọ́. Àǹfààní rẹ̀ ni pé a lè ṣàtúnṣe agbára ìtànṣán ion àti ìtọ́sọ́nà, ṣùgbọ́n a lè lo alloy kan tàbí àdàpọ̀ kan ṣoṣo tàbí àdàpọ̀ tí ó lopin gẹ́gẹ́ bí orísun ìtújáde, àti pé ìfúnpá èéfín kọ̀ọ̀kan ti èròjà alloy àti èròjà náà yàtọ̀ síra, èyí tí ó mú kí ó ṣòro láti gba ìpele fíìmù ti àdàpọ̀ orísun ìtújáde àtilẹ̀wá.
Àwòrán (b) fi ìpamọ́ ìpèsè ...
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù kọkànlá-08-2022