فناوری رسوب به کمک پرتو یونی

در واقع فناوری رسوب به کمک پرتو یونی یک فناوری ترکیبی است.این یک تکنیک درمان یون سطحی مرکب است که ترکیبی از کاشت یون و فناوری فیلم رسوب بخار فیزیکی و نوع جدیدی از تکنیک بهینه‌سازی سطح پرتو یونی است.علاوه بر مزایای رسوب بخار فیزیکی، این تکنیک می تواند به طور مداوم هر لایه ضخامتی را تحت شرایط کنترل دقیق تر رشد دهد، کریستالی بودن و جهت لایه فیلم را به طور قابل توجهی بهبود بخشد، قدرت چسبندگی لایه / بستر فیلم را افزایش دهد، چگالی را بهبود بخشد. از لایه فیلم، و ترکیب فیلم‌های ترکیبی با نسبت‌های استوکیومتری ایده‌آل در دمای نزدیک اتاق، از جمله انواع جدید فیلم‌هایی که در دما و فشار اتاق به دست نمی‌آیند.رسوب به کمک پرتو یونی نه تنها مزایای فرآیند کاشت یون را حفظ می کند، بلکه می تواند بستر را با یک فیلم کاملاً متفاوت از بستر بپوشاند.
در انواع رسوب بخار فیزیکی و رسوب بخار شیمیایی، مجموعه ای از تفنگ های یونی بمباران کمکی را می توان برای تشکیل یک سیستم IBAD اضافه کرد و دو فرآیند کلی IBAD به شرح زیر وجود دارد، همانطور که در تصویر نشان داده شده است:

همانطور که در تصویر (الف) نشان داده شده است، از یک منبع تبخیر پرتو الکترونی برای تابش لایه فیلم با پرتو یونی ساطع شده از تفنگ یونی استفاده می شود، بنابراین رسوب به کمک پرتو یونی را درک می کند.مزیت این است که انرژی و جهت پرتو یونی قابل تنظیم است، اما تنها از یک آلیاژ یا ترکیب محدود می توان به عنوان منبع تبخیر استفاده کرد و فشار بخار هر جزء و ترکیب آلیاژ متفاوت است، که کار را دشوار می کند. برای به دست آوردن لایه فیلم از ترکیب منبع تبخیر اصلی.
تصویر (ب) رسوب به کمک کندوپاش پرتو یونی را نشان می دهد که به رسوب کندوپاش پرتو یونی دوگانه نیز معروف است، که در آن هدف از مواد پوشش کندوپاش پرتو یونی، محصولات کندوپاش به عنوان منبع استفاده می شود.در حالی که آن را بر روی بستر قرار می دهد، رسوب کمک کندوپاش پرتو یونی با تابش با منبع یونی دیگر به دست می آید.مزیت این روش این است که ذرات پراکنده شده خود انرژی خاصی دارند، بنابراین چسبندگی بهتری با بستر وجود دارد.هر جزء از هدف می تواند پوشش پراکنده شود، اما همچنین می تواند واکنش کندوپاش را به فیلم، آسان برای تنظیم ترکیب فیلم، اما بازده رسوب آن کم است، هدف گران است و مشکلاتی مانند کندوپاش انتخابی وجود دارد.