खरं तर, आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन तंत्रज्ञान हे एक संमिश्र तंत्रज्ञान आहे. हे आयन इम्प्लांटेशन आणि फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन फिल्म तंत्रज्ञान यांना एकत्र आणणारे एक संमिश्र पृष्ठभाग आयन उपचार तंत्र आहे, आणि एक नवीन प्रकारचे आयन बीम पृष्ठभाग ऑप्टिमायझेशन तंत्र आहे. फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशनच्या फायद्यांव्यतिरिक्त, हे तंत्र अधिक कठोर नियंत्रण परिस्थितीत कोणत्याही जाडीची फिल्म सतत वाढवू शकते, फिल्म लेयरची क्रिस्टॅलिनिटी आणि ओरिएंटेशन अधिक लक्षणीयरीत्या सुधारू शकते, फिल्म लेयर/सबस्ट्रेटची आसंजन शक्ती वाढवू शकते, फिल्म लेयरची घनता सुधारू शकते, आणि सामान्य तापमानाजवळ आदर्श स्टॉइकिओमेट्रिक गुणोत्तरांसह संयुक्त फिल्म्सचे संश्लेषण करू शकते, ज्यामध्ये अशा नवीन प्रकारच्या फिल्म्सचा समावेश आहे ज्या सामान्य तापमान आणि दाबावर मिळवता येत नाहीत. आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशन केवळ आयन इम्प्लांटेशन प्रक्रियेचे फायदेच टिकवून ठेवत नाही, तर सबस्ट्रेटला सबस्ट्रेटपेक्षा पूर्णपणे वेगळ्या फिल्मने आच्छादित करू शकते.
सर्व प्रकारच्या फिजिकल व्हेपर डिपॉझिशन आणि केमिकल व्हेपर डिपॉझिशनमध्ये, IBAD प्रणाली तयार करण्यासाठी सहाय्यक बॉम्बार्डमेंट आयन गनचा एक संच जोडला जाऊ शकतो, आणि चित्रात दाखवल्याप्रमाणे दोन सामान्य IBAD प्रक्रिया खालीलप्रमाणे आहेत:
चित्र (अ) मध्ये दाखवल्याप्रमाणे, इलेक्ट्रॉन बीम बाष्पीभवन स्रोताचा वापर करून आयन गनमधून उत्सर्जित होणाऱ्या आयन बीमने फिल्मच्या थरावर किरणोत्सर्ग केला जातो, ज्यामुळे आयन बीम सहाय्यित निक्षेपण (deposition) साध्य होते. याचा फायदा असा आहे की आयन बीमची ऊर्जा आणि दिशा समायोजित केली जाऊ शकते, परंतु बाष्पीभवन स्रोत म्हणून केवळ एकच किंवा मर्यादित मिश्रधातू किंवा संयुग वापरले जाऊ शकते, आणि मिश्रधातू घटक व संयुगाचा बाष्प दाब वेगवेगळा असतो, ज्यामुळे मूळ बाष्पीभवन स्रोताच्या रचनेचा फिल्म थर मिळवणे कठीण होते.
चित्र (b) मध्ये आयन बीम स्पटरिंग-सहाय्यित निक्षेपण (deposition) दाखवले आहे, ज्याला दुहेरी आयन बीम स्पटरिंग निक्षेपण असेही म्हणतात. यामध्ये, आयन बीम स्पटरिंग कोटिंग मटेरियलपासून बनवलेल्या टार्गेटचा वापर स्रोत म्हणून केला जातो आणि स्पटरिंग उत्पादने सब्सट्रेटवर निक्षेपित करताना, दुसऱ्या आयन स्रोताद्वारे किरणोत्सर्ग करून आयन बीम स्पटरिंग-सहाय्यित निक्षेपण साधले जाते. या पद्धतीचा फायदा असा आहे की स्पटर केलेल्या कणांमध्ये स्वतःची एक विशिष्ट ऊर्जा असते, त्यामुळे सब्सट्रेटसोबत त्यांचे आसंजन (adhesion) चांगले होते; टार्गेटच्या कोणत्याही घटकावर स्पटरिंग कोटिंग करता येते, तसेच रिॲक्शन स्पटरिंगद्वारे फिल्म तयार करता येते, ज्यामुळे फिल्मची रचना समायोजित करणे सोपे होते. परंतु, याची निक्षेपण कार्यक्षमता कमी असते, टार्गेट महाग असते आणि निवडक स्पटरिंग (selective sputtering) सारख्या समस्या येतात.
पोस्ट करण्याची वेळ: नोव्हेंबर-०८-२०२२