Re vera, Ion trabes depositionis adiutus technologiae technologiae compositae est.Ion curationis superficies composita est ars coniunctio implantatio ion et vapor corporis depositio technologiae pelliculae, et nova species superficiei ion trabes optimization ars.Praeter commoda depositionis vaporis corporis, haec ars continue crescere potest quamlibet crassitudinem pellicularum sub durioribus condicionibus moderandis, meliorem crystallinitatem et orientationem cinematographici significantius, adhaesionem auget robur cinematographicae/subiectum, crassitudinem meliorem. cinematographicae cinematographicae, et compone membranas compositas cum rationibus idealibus stoichiometricis apud cella temperaturas, in quibus nova genera membranarum quae in cella temperatura et pressione haberi non possunt.Ion trabes depositionis adiutus non solum commoda processus implantationis Ion retinet, sed etiam substratum cum alia cinematographica omnino a subiecto velare potest.
In omnibus generibus vaporum physicorum depositio et depositio vaporum chemicorum, copia bombardarum tormentorum auxiliarium addi potest ad systema IBAD formandum, et sunt duo processus generales IBAD sic, ut in Pic ostensum est:
Sicut patet in Pic (a), fons electronici radius evaporationis adhibetur ad irradiandum stratum cinematographicum cum ion emisso e sclopeto emisso, ita intellegens ion trabem depositionis adiuvari.Utilitas est ut ion trabes energiae et directionis adaptari possint, sed una tantum vel limitata mixtura vel mixtura uti potest ut fons evaporationis, et quodlibet vapor pressionis mixtionis componentis et compositi alia est, quae difficilem reddit. ad obtinendum cinematographicum cinematographicum originis evaporationis originalis compositionis.
Pic (b) Ion trabem putris depositionis adiuvantis ostendit, quae etiam duplex Ion trabs putris depositionis dicitur, in qua clypeum ion trabi putris efficiens materiale factum, putris productorum pro fonte ponitur.Dum eam in subiecto deponit, ion trabes putris adiuvatur, depositio fit per irradiationem cum alio ion fonte.Utilitas huius methodi est, ut vepretae particulae ipsae quamdam vim habeant, sic cum subiecto melior est adhaesio;quaelibet pars scopo coating sputri potest, sed etiam potest esse reactionem putris in cinematographico, facile compositionem movendi accommodare, sed eius depositio efficientia humilis est, scopo carus est et sunt quaestiones selectivae putris.
Post tempus: Nov-08-2022