Tekonolosi fa'aputuga fesoasoani i le ave o le ion

O le mea moni, o le tekinolosi o le Ion beam assisted deposition o se tekinolosi tu'ufa'atasi. O se metotia togafitiga ion luga tu'ufa'atasi e tu'ufa'atasia ai le fa'apipi'iina o le ion ma le tekinolosi o le ata tifaga fa'apipi'i ausa faaletino, ma se ituaiga fou o metotia fa'aleleia o le luga o le ion beam. I le fa'aopoopoga i lelei o le fa'apipi'iina o le ausa faaletino, e mafai e lenei metotia ona fa'aauau pea ona fa'atupula'ia so'o se ata tifaga mafiafia i lalo o tulaga fa'atonutonu sili atu ona faigata, fa'aleleia atili le crystallinity ma le fa'atulagaina o le vaega o le ata tifaga, fa'ateleina le malosi o le pipii o le vaega o le ata tifaga/substrate, fa'aleleia le mafiafia o le vaega o le ata tifaga, ma fa'aputuina ata tifaga tu'ufa'atasi ma fua fa'atatau stoichiometric lelei i le vevela o le potu, e aofia ai ituaiga fou o ata tifaga e le mafai ona maua i le vevela o le potu ma le mamafa. O le fa'apipi'iina o le Ion beam assisted e le gata ina taofia ai lelei o le faiga o le fa'apipi'iina o le ion, ae mafai fo'i ona ufiufi le substrate i se ata tifaga e matua'i ese lava mai le substrate.
I ituaiga uma o le fa'aputuina o le ausa faaletino ma le fa'aputuina o le ausa vaila'au, e mafai ona fa'aopoopoina se seti o fana fa'a'au'au e fausia ai se faiga IBAD, ma e lua faiga lautele o le IBAD e pei ona taua i lalo, e pei ona fa'aalia i le Ata:

E pei ona faʻaalia i le Ata (a), o se puna o le faʻamamago o le ave eletise e faʻaaogaina e faʻamalamalamaina ai le vaega o le ata tifaga i le ave ion e faʻasalalauina mai le fana ion, ma faʻataunuʻuina ai le faʻaputuga fesoasoani a le ave ion. O le lelei o le mafai lea ona fetuʻunaʻi le malosi ma le itu e agai i ai le ave ion, ae naʻo le tasi pe faʻatapulaʻaina le uʻamea faʻatasi, poʻo le tuʻufaʻatasi e mafai ona faʻaaogaina e fai ma puna o le faʻamamago, ma e eseese le mamafa o le ausa taʻitasi o le vaega o le uʻamea faʻatasi ma le tuʻufaʻatasi, lea e faigata ai ona maua le vaega o le ata tifaga o le tuʻufaʻatasiga muamua o le puna o le faʻamamago.
O le Ata (b) o loʻo faʻaalia ai le faʻaputuga fesoasoani a le ion beam sputtering, lea e taʻua foʻi o le faʻaputuga sputtering beam double ion, lea e faia ai le sini i mea ufiufi sputtering ion beam, o oloa sputtering e faʻaaogaina o se puna. Aʻo faʻaputuina i luga o le substrate, o le faʻaputuga fesoasoani a le ion beam sputtering e ausia e ala i le faʻavevela i se isi puna ion. O le lelei o lenei metotia o le sputtered particles lava ia e iai se malosi patino, o lea e sili atu le pipii ma le substrate; soʻo se vaega o le sini e mafai ona sputtered coating, ae mafai foʻi ona reaction sputtering i totonu o le ata tifaga, faigofie ona fetuʻunaʻi le tuʻufaʻatasiga o le ata tifaga, ae o lona lelei o le faʻaputuga e maualalo, e taugata le sini ma e iai faʻafitauli e pei o le selective sputtering.