Tecnoloxía de deposición asistida por feixe iónico

De feito, a tecnoloxía de deposición asistida por feixe iónico é unha tecnoloxía composta.É unha técnica de tratamento de ións de superficie composta que combina a tecnoloxía de implantación de ións e a película de deposición física de vapor, e un novo tipo de técnica de optimización de superficie de feixe iónico.Ademais das vantaxes da deposición física de vapor, esta técnica pode facer crecer continuamente calquera película de espesor en condicións de control máis estritas, mellorar a cristalinidade e a orientación da capa de película de forma máis significativa, aumentar a forza de adhesión da capa/substrato de película, mellorar a densidade. da capa de película e sintetizar películas compostas con relacións estequiométricas ideais a temperatura ambiente próxima, incluíndo novos tipos de películas que non se poden obter a temperatura e presión ambientes.A deposición asistida por feixe iónico non só conserva as vantaxes do proceso de implantación de ións, senón que tamén pode cubrir o substrato cunha película completamente diferente á do substrato.
En todo tipo de deposición física de vapor e deposición química de vapor, pódese engadir un conxunto de canóns iónicos de bombardeo auxiliares para formar un sistema IBAD, e hai dous procesos xerais de IBAD como se mostra na imaxe:

Como se mostra na imaxe (a), utilízase unha fonte de evaporación do feixe de electróns para irradiar a capa de película co feixe de iones emitido pola pistola iónica, producindo así a deposición asistida por feixe iónico.A vantaxe é que a enerxía e a dirección do feixe iónico pódense axustar, pero só se pode usar unha aliaxe ou un composto único ou limitado como fonte de evaporación, e a presión de vapor de cada compoñente e composto da aliaxe é diferente, o que dificulta para obter a capa de película da composición orixinal da fonte de evaporación.
A imaxe (b) mostra a deposición asistida por pulverización de feixe iónico, que tamén se coñece como deposición de pulverización de feixe iónico dobre, na que o obxectivo feito de material de revestimento de pulverización de feixe iónico, os produtos de pulverización úsanse como fonte.Mentres se deposita no substrato, a deposición asistida por pulverización catódica con feixe iónico conséguese mediante irradiación con outra fonte de ións.A vantaxe deste método é que as propias partículas pulverizadas teñen unha certa enerxía, polo que hai unha mellor adhesión co substrato;Calquera compoñente do obxectivo pode ser revestimento de pulverización catódica, pero tamén pode ser unha reacción catódica na película, fácil de axustar a composición da película, pero a súa eficiencia de deposición é baixa, o obxectivo é caro e hai problemas como a pulverización catódica selectiva.