Fa'aleleia o le cathode vevela mo le maneta o le sputtering

O le filament tungsten e faʻavevela i se vevela maualuga e faʻauluina ai le eletise vevela e faʻaulu ai se vaitafe eletise maualuga, ma i le taimi lava e tasi e faʻapipiʻiina ai se eletise faʻavavevave e faʻavave ai le eletise vevela i totonu o le eletise eletise maualuga. E mafai ona sili atu le chlorine ionization, sili atu u'amea layer atoms ionized e maua atili ions chloride e faaleleia ai le fua faatatau sputtering, lea faateleina le fua faatatau deposition: e mafai ona sili atu ionization uamea e faaleleia ai le fua faatatau ionization uʻamea, conducive i le tali atu o le deposition o le ata tuufaatasia; ions layer uʻamea uʻamea e oʻo atu i le mea faigaluega e faʻaleleia ai le mamafa o loʻo i ai nei o le mea faigaluega, ma faʻapupulaina ai le fua o le deposition.

I le magnetron sputtering malo faʻapipiʻi, Faʻateleina i le taimi nei density ma ata faʻatulagaina o le mea faigaluega luma ma tua o le cathodizing vevela. TiSiCN i luma o le faaopoopoga o le cathode vevela, o le density o loo i ai nei i luga o le mea faigaluega e na o le 0.2mA / mm, pe a uma le faateleina o le cathode vevela i le 4.9mA / mm2, lea e tutusa ma le faateleina o le 24 taimi pe sili atu, ma le faalapotopotoga ata tifaga e sili atu mafiafia. E mafai ona iloa i le magnetron sputtering coating tekinolosi, o le faʻaopoopoga o se cathode vevela e matua aoga i le faʻaleleia o le magnetron sputtering deposition rate ma le gaioiga o vaega ata tifaga. O lenei tekinolosi e mafai ona fa'aleleia atili ai le ola o lau o le turbine, pamu palapala, ma vaega olo.

–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua