سي وي ڊي ٽيڪنالاجي جا قسم

وسيع طور تي ڳالهائڻ، CVD کي تقريبن ٻن قسمن ۾ ورهائي سگهجي ٿو: هڪ واحد ڪرسٽل ايپيٽيڪسيل پرت جي سبسٽريٽ وانپ جمع تي سنگل پراڊڪٽ ۾ آهي، جيڪو تنگ طور تي CVD آهي؛ ٻيو سبسٽريٽ تي پتلي فلمن جو جمع آهي، جنهن ۾ ملٽي پراڊڪٽ ۽ بي شڪل فلمون شامل آهن. استعمال ٿيندڙ ماخذ گيسن جي مختلف قسمن جي مطابق، CVD کي هالوجن ٽرانسپورٽ طريقو ۽ ڌاتو-نامياتي ڪيميائي وانپ جمع (MOCVD) ۾ ورهائي سگهجي ٿو، اڳوڻو گئس ذريعو طور هالائيڊ ڪرڻ لاءِ، بعد ۾ ڌاتو-نامياتي مرکبات کي گئس ذريعو طور. رد عمل چيمبر ۾ دٻاءُ جي مطابق، ان کي ٽن مکيه قسمن ۾ ورهائي سگهجي ٿو: ماحولي دٻاءُ CVD (APCVD)، گهٽ دٻاءُ CVD (LPCVD) ۽ الٽرا هاءِ ويڪيوم CVD (UHV/CVD). CVD کي توانائي-وڌايل معاون طريقو طور پڻ استعمال ڪري سگهجي ٿو، ۽ اڄڪلهه عام طريقن ۾ پلازما-وڌايل CVD (PECVD) ۽ روشني-وڌايل CVD (PCVD) وغيره شامل آهن. CVD بنيادي طور تي هڪ گئس-مرحلي جمع ڪرڻ جو طريقو آهي.

CVD بنيادي طور تي هڪ فلم ٺاهڻ جو طريقو آهي جنهن ۾ هڪ گئس-فيز مادو کي ڪيميائي طور تي تيز گرمي پد تي رد عمل ڪيو ويندو آهي ته جيئن هڪ مضبوط مادو پيدا ٿئي جيڪو سبسٽريٽ تي جمع ٿئي ٿو. خاص طور تي، غير مستحڪم ڌاتو هيلائيڊس يا ڌاتو نامياتي مرڪب هڪ ڪيريئر گيس جهڙوڪ H، Ar، يا N سان ملايا ويندا آهن، ۽ پوءِ هڪجهڙائي سان رد عمل چيمبر ۾ هڪ اعليٰ درجه حرارت واري سبسٽريٽ ڏانهن منتقل ڪيا ويندا آهن ته جيئن ڪيميائي رد عمل ذريعي سبسٽريٽ تي هڪ پتلي فلم ٺاهي سگهجي. ڪابه پرواهه ناهي ته ڪهڙي قسم جي CVD، جمع ڪاميابي سان ڪري سگهجي ٿي هيٺين بنيادي شرطن کي پورو ڪرڻ گهرجي: پهريون، جمع ڪرڻ جي درجه حرارت ۾، ري ايڪٽنٽ کي ڪافي تيز بخار جو دٻاءُ هجڻ گهرجي؛ ٻيو، رد عمل جي پيداوار، مضبوط حالت لاءِ گهربل جمع کان علاوه، باقي گيسي حالت؛ ٽيون، جمع پاڻ کي ڪافي گهٽ بخار جو دٻاءُ هجڻ گهرجي ته جيئن گرم سبسٽريٽ جي پوري عمل ۾ جمع ڪرڻ جي رد عمل جي عمل کي برقرار رکي سگهجي. چوٿون، سبسٽريٽ مواد کي ڪيميائي رد عمل ذريعي سبسٽريٽ تي رد عمل چيمبر ڏانهن هڪجهڙائي سان منتقل ڪيو ويندو آهي ته جيئن هڪ پتلي فلم ٺاهي سگهجي. چوٿون، سبسٽريٽ مواد جو بخار جو دٻاءُ به جمع ڪرڻ جي درجه حرارت تي ڪافي گهٽ هجڻ گهرجي.

- هي مضمون شايع ٿيو آهي byويڪيوم ڪوٽنگ مشين ٺاهيندڙگوانگڊونگ زينوا