ZHCVD1200

O equipamento utiliza principalmente a deposição química de vapor para preparar o filme de óxido, que possui as características de rápida taxa de deposição e alta qualidade do filme. A estrutura do equipamento utiliza uma porta dupla para melhorar a eficiência da fixação, e o sistema de fornecimento de gás líquido mais moderno é adotado para garantir um fluxo estável e controlável, garantindo efetivamente a estabilidade do processo. O filme preparado pelo equipamento possui boa barreira ao vapor de água e maior período de estabilidade no teste de ebulição.
O equipamento pode ser aplicado em aço inoxidável, peças de hardware/plástico galvanizadas, vidro, cerâmica e outros materiais, como produtos eletrônicos, esferas de luz LED, suprimentos médicos e outros produtos que necessitem de resistência à oxidação. A película de barreira SiOx é preparada principalmente para bloquear eficazmente o vapor de água, prevenir a corrosão e a oxidação e aumentar a vida útil do produto.