Технологија на таложење со помош на јонски зрак

Всушност, технологијата за таложење со помош на јонски зрак е композитна технологија. Тоа е техника за третман на композитни површински јони што комбинира јонска имплантација и технологија на физичко таложење на пареа на филм, како и нов вид техника за оптимизација на површината со јонски зрак. Покрај предностите на физичкото таложење на пареа, оваа техника може континуирано да расте филм со која било дебелина под построги контролни услови, значително да ја подобри кристалноста и ориентацијата на филмскиот слој, да ја зголеми јачината на адхезија на филмскиот слој/подлогата, да ја подобри густината на филмскиот слој и да синтетизира сложени филмови со идеални стехиометриски соодноси на близу собна температура, вклучувајќи нови видови филмови што не можат да се добијат на собна температура и притисок. Таложењето со помош на јонски зрак не само што ги задржува предностите на процесот на јонска имплантација, туку може да ја покрие и подлогата со сосема различен филм од подлогата.
Кај сите видови физичко и хемиско таложење на пареа, може да се додаде сет од помошни јонски пиштоли за бомбардирање за да се формира IBAD систем, а постојат два општи IBAD процеси како што следува, како што е прикажано на сликата:

Како што е прикажано на Слика (а), извор на испарување со електронски зрак се користи за озрачување на филмскиот слој со јонскиот зрак емитиран од јонскиот пиштол, со што се реализира таложење потпомогнато од јонски зрак. Предноста е што енергијата и насоката на јонскиот зрак можат да се прилагодат, но само една или ограничена легура или соединение може да се користи како извор на испарување, а притисокот на пареа на компонентата на легурата и соединението е различен, што го отежнува добивањето на филмскиот слој од оригиналниот состав на изворот на испарување.
Слика (б) го прикажува таложењето со помош на распрскување со јонски зрак, кое е познато и како таложење со двојно распрскување со јонски зрак, при што целта е направена од материјал за обложување со распрскување со јонски зрак, а производите од распрскување се користат како извор. При нивното таложење на подлогата, таложењето со помош на распрскување со јонски зрак се постигнува со зрачење со друг јонски извор. Предноста на овој метод е што самите распрснати честички имаат одредена енергија, па затоа има подобра адхезија со подлогата; која било компонента на целта може да се обложи со распрскување, но исто така може да се реакционира во филмот, лесно е да се прилагоди составот на филмот, но неговата ефикасност на депонирање е ниска, целта е скапа и постојат проблеми како што е селективното распрскување.