Amin'ny ankapobeny, ny CVD dia azo zaraina ho karazany roa: ny iray dia ao amin'ny vokatra tokana amin'ny fametrahana etona substrate amin'ny sosona epitaxial kristaly tokana, izay tery CVD; Ny iray hafa dia ny fametrahana sarimihetsika manify eo amin'ny substrate, ao anatin'izany ny sarimihetsika marobe sy amorphous. Araka ny karazana entona loharano samihafa ampiasaina, ny CVD dia azo zaraina amin'ny fomba fitaterana halogen sy ny fametrahana entona simika metaly-organika (MOCVD), ny voalohany amin'ny halide ho loharano entona, ny farany amin'ny fangaro metaly-organika ho loharano entona. Araka ny fanerena ao amin'ny efitrano fanehoan-kevitra, dia azo zaraina ho telo lehibe karazana: Atmosfera fanerena CVD (APCVD), ambany tsindry CVD (LPCVD) sy ultra-avo vacuum CVD (UHV / CVD) .CVD dia azo ampiasaina ho toy ny angovo-nohatsaraina fomba fanampiny, ary amin'izao fotoana izao ny mahazatra dia ahitana ny plasma-nohatsaraina CVD sy CVD (PCVD) hazavana (PECVD) CVD, sns. Ny CVD dia amin'ny ankapobeny dia fomba famafazana gazy.
Ny CVD dia fomba iray mamorona sarimihetsika izay misy akora misy entona mihetsiketsika amin'ny hafanana ambony mba hamokarana akora mivaingana apetraka amin'ny substrate. Amin'ny ankapobeny, ny halida metaly mivaingana na ny kapoaky ny organika metaly dia mifangaro amin'ny entona mpitatitra toy ny H, Ar, na N, ary avy eo dia entina mitovitovy amin'ny substrate hafanana avo ao amin'ny efitrano fanehoan-kevitra mba hamorona sarimihetsika manify eo amin'ny substrate amin'ny alàlan'ny fanehoan-kevitra simika. Na inona na inona karazana CVD, deposition azo tanterahina amim-pahombiazana dia tsy maintsy mahafeno ireto fepetra fototra manaraka ireto: Voalohany, amin'ny mari-pana deposition, ny reactants dia tsy maintsy manana etona avo tsindry; Faharoa, ny vokatra fanehoan-kevitra, ankoatry ny petra-bola irina ho an'ny fanjakana mafy orina, ny sisa amin'ny fanjakana gazy; Fahatelo, ny petra-bola ny tenany dia tokony ho ambany etona fanerena mba hahazoana antoka fa ny deposition fanehoan-kevitra dingana azo tehirizina ao amin`ny dingana manontolo ny nafanaina substrate; Fahefatra, ny fitaovana substrate dia mitovitovy entina mankany amin'ny efitrano fanehoan-kevitra eo amin'ny substrate, amin'ny alàlan'ny fanehoan-kevitra simika mba hamorona sarimihetsika manify. Fahefatra, tokony ho ambany ihany koa ny fanerena etona amin'ny akora substrate amin'ny mari-pana deposition.
– Navoaka ity lahatsoratra ity byVacuum coating mpanamboatra milinaGuangdong Zhenhua
Fotoana fandefasana: May-04-2024