Ny filamenta tungstène dia mafana amin'ny hafanana avo izay mamoaka elektrôna mafana mba handefasana elektrôna avo lenta, ary miaraka amin'izay koa ny electrode accelerating dia napetraka mba hanafaingana ny elektrôna mafana ho amin'ny renirano elektronika avo lenta. High-density, avo-angovo electron fikorianan'ny mety ho klôro ionization kokoa, sarimihetsika metaly kokoa sosona atôma ionized mba hahazoana bebe kokoa klôro ions mba hanatsarana ny sputtering tahan'ny, amin'izany mampitombo ny tahan'ny deposition: mety ho vy kokoa ionization mba hanatsarana ny metaly ionization tahan'ny, mahasoa ny fihetsiky ny deposition ny fitambaran'ny sarimihetsika; metaly sarimihetsika sosona ions mba hahatratra ny workpiece mba hanatsarana ny hakitroky ny asa amin'izao fotoana izao, ka mampitombo ny tahan'ny deposition.
Ao amin'ny magnetron sputtering mafy coating, Ampitomboy amin'izao fotoana izao hakitroky sy ny sarimihetsika fandaminana ny workpiece aloha sy aoriana ny mafana cathodizing. TiSiCN alohan'ny fanampiana ny mafana cathode, ny hakitroky amin'izao fotoana izao eo amin'ny workpiece dia 0.2mA/mm ihany, taorian'ny fitomboan'ny mafana cathode ho 4.9mA/mm2, izay mitovy amin'ny fitomboan'ny in-24 na mihoatra, ary ny filma fandaminana dia matevina kokoa. Dia hita fa amin'ny magnetron sputtering coating teknolojia, ny fanampiana ny mafana cathode dia tena mahomby amin'ny fanatsarana ny magnetron sputtering deposition tahan'ny sy ny asan'ny sarimihetsika poti. Ity teknôlôjia ity dia afaka manatsara ny fiainan'ny lelan'ny turbine, ny plunger paompy fotaka ary ny kojakoja fikosoham-bary.
– Ity lahatsoratra ity dia navoakan'nyVacuum coating mpanamboatra milinaGuangdong Zhenhua
Fotoana fandefasana: Oct-11-2023