ZHCVD1200

D'Ausrüstung benotzt haaptsächlech chemesch Gasoflagerung fir den Oxidfilm ze preparéieren, deen d'Charakteristike vun enger schneller Oflagerungsquote an héijer Filmqualitéit huet. Wat d'Struktur vun der Ausrüstung ugeet, gëtt déi duebel Dierstruktur benotzt fir d'Spannleistung ze verbesseren, an dat neitst flëssegt Gasversuergungssystem gëtt agesat fir e stabile a kontrolléierbare Floss ze garantéieren an d'Prozessstabilitéit effektiv ze garantéieren. De Film, deen vun der Ausrüstung preparéiert gëtt, huet eng gutt Waasserdampbarriär an eng méi laang Stabilitéitsperiod am Kachtest.
D'Ausrüstung kann op Edelstol, galvaniséiert Hardware-/Plastikdeeler, Glas, Keramik an aner Materialien, wéi elektronesch Produkter, LED-Liichtperlen, medizinescht Material an aner Produkter, déi Oxidatiounsbeständegkeet brauchen, ugewannt ginn. SiOx-Barrièrefolie ass haaptsächlech virbereet fir Waasserdamp effektiv ze blockéieren, Korrosioun an Oxidatioun ze verhënneren an d'Liewensdauer vum Produkt ze verbesseren.