1) 円筒形ターゲットは平面ターゲットよりも利用率が高い。コーティング工程において、回転磁気式または回転管式の円筒形スパッタリングターゲットのいずれの場合でも、ターゲット管表面のすべての部分が永久磁石の前面に生成されたスパッタリング領域を連続的に通過して陰極スパッタリングを受けるため、ターゲットは均一にスパッタリングおよびエッチングされ、ターゲットの利用率が高くなる。ターゲット材料の利用率は約80%～90%である。
2) 円筒形のターゲットは「ターゲット汚染」を起こしにくい。コーティング工程中、ターゲット管の表面は常にイオンによってスパッタリングおよびエッチングされるため、表面に厚い酸化物やその他の絶縁層が蓄積しにくく、「ターゲット汚染」を起こしにくい。
3) 回転ターゲット管型円筒形スパッタリングターゲットの構造はシンプルで設置が容易です。
4) 円筒形ターゲット管の材料には様々な種類があります。平面ターゲットは金属ターゲットを直接水冷しますが、In2-SnO2ターゲットなど、加工して円筒形ターゲットを形成できないものもあります。粉末材料を熱間等方圧プレスして板状ターゲットを得る方法もありますが、サイズを大きくすることができず、脆いため、ろう付け法と銅製バックプレートを使用して一体化し、ターゲットベースに取り付ける必要があります。金属管の他に、円柱状ターゲットは、ステンレス鋼管の表面にSi、Crなどのコーティングが必要な様々な材料をスプレーすることもできます。
現在、工業生産におけるコーティング用円筒形ターゲットの割合は増加傾向にある。円筒形ターゲットは、垂直コーティング機だけでなく、ロールツーロールコーティング機にも使用されている。近年、平面型ツインターゲットは徐々に円筒形ツインターゲットに置き換えられつつある。
――この記事は広東振華科技によって公開されました。光学コーティング装置の製造業者.
投稿日時：2023年5月11日