1) Target silindris memiliki tingkat pemanfaatan yang lebih tinggi daripada target planar. Dalam proses pelapisan, baik itu target sputtering silindris tipe magnet putar atau tipe tabung putar, semua bagian permukaan tabung target terus menerus melewati area sputtering yang dihasilkan di depan magnet permanen untuk menerima sputtering katoda, dan target dapat di-sputtering secara seragam, sehingga tingkat pemanfaatan target tinggi. Tingkat pemanfaatan material target sekitar 80%~90%.
2) Target berbentuk silinder tidak mudah menyebabkan "keracunan target". Selama proses pelapisan, permukaan tabung target selalu disemprot dan diukir oleh ion, sehingga tidak mudah menumpuk oksida tebal dan lapisan isolasi lainnya di permukaan, dan tidak mudah menyebabkan "keracunan target".
3) Struktur tabung target putar tipe target sputtering silindris sederhana dan mudah dipasang.
4) Material tabung target silindris memiliki berbagai jenis. Target planar dengan pendinginan air langsung dari logam, dan beberapa target silindris yang tidak dapat diproses dan dibentuk, seperti target In2-SnO2, dll., menggunakan material bubuk untuk pengepresan isostatik panas untuk mendapatkan target berbentuk pelat, karena ukurannya tidak dapat dibuat besar dan rapuh, sehingga perlu menggunakan metode penyolderan dan pelat belakang tembaga untuk diintegrasikan dan kemudian dipasang pada dasar target. Selain pipa logam, target kolumnar juga dapat disemprotkan pada permukaan pipa baja tahan karat dengan berbagai material yang perlu dilapisi, seperti Si, Cr, dll.
Saat ini, proporsi target silindris untuk pelapisan dalam produksi industri semakin meningkat. Target silindris tidak hanya digunakan untuk mesin pelapis vertikal tetapi juga digunakan pada mesin pelapis roll-to-roll. Dalam beberapa tahun terakhir, target kembar planar secara bertahap digantikan oleh target kembar silindris.
——Artikel ini diterbitkan oleh Guangdong Zhenhua Technology, sebuahprodusen mesin pelapis optik.
Waktu posting: 11 Mei 2023