Il rivestimento mediante sputtering magnetron viene eseguito in scarica a bagliore, con bassa densità di corrente di scarica e bassa densità di plasma nella camera di rivestimento. Ciò comporta svantaggi per la tecnologia di sputtering magnetron, come la bassa forza di adesione del film al substrato, il basso tasso di ionizzazione del metallo e la bassa velocità di deposizione. Nella macchina per il rivestimento mediante sputtering magnetron, viene aggiunto un dispositivo a scarica ad arco, che può utilizzare il flusso di elettroni ad alta densità nel plasma d'arco generato dalla scarica ad arco per pulire il pezzo in lavorazione e può anche partecipare al rivestimento e alla deposizione ausiliaria.
Aggiungere una sorgente di alimentazione a scarica ad arco alla macchina per rivestimento a sputtering magnetron, che può essere una piccola sorgente ad arco, una sorgente ad arco planare rettangolare o una sorgente ad arco catodico cilindrica. Il flusso di elettroni ad alta densità generato dalla sorgente ad arco catodico può svolgere i seguenti ruoli nell'intero processo di rivestimento a sputtering magnetron:
1. Pulire il pezzo. Prima del rivestimento, accendere la sorgente ad arco catodico, ecc., ionizzare il gas con un flusso di elettroni ad arco e pulire il pezzo con ioni di argon a bassa energia e alta densità.
2. La sorgente ad arco e il bersaglio di controllo magnetico vengono rivestiti contemporaneamente. Quando il bersaglio di sputtering a magnetron con scarica a bagliore viene attivato per il rivestimento, anche la sorgente ad arco catodico viene attivata e entrambe le sorgenti di rivestimento vengono rivestite simultaneamente. Quando la composizione del materiale del bersaglio di sputtering a magnetron e del materiale del bersaglio della sorgente ad arco è diversa, è possibile depositare più strati di film, e lo strato di film depositato dalla sorgente ad arco catodico funge da strato intermedio nel film multistrato.
3. La sorgente ad arco catodico fornisce un flusso di elettroni ad alta densità durante il processo di rivestimento, aumentando la probabilità di collisione con gli atomi dello strato di film metallico spruzzato e con i gas di reazione, migliorando la velocità di deposizione, la velocità di ionizzazione del metallo e svolgendo un ruolo di supporto alla deposizione.
La sorgente ad arco catodico configurata nella macchina per rivestimento a sputtering magnetron integra una sorgente di pulizia, una sorgente di rivestimento e una sorgente di ionizzazione, svolgendo un ruolo positivo nel migliorare la qualità del rivestimento a sputtering magnetron sfruttando il flusso di elettroni dell'arco nel plasma dell'arco.
Data di pubblicazione: 21 giugno 2023