O le ufiufiina o le Magnetron sputtering e fa'atinoina i le glow discharge, ma le maualalo o le discharge current density ma le maualalo o le plasma density i totonu o le potu ufiufi. O lenei mea e mafua ai ona i ai ni fa'aletonu i le tekinolosi magnetron sputtering e pei o le maualalo o le malosi o le fusifusia o le substrate film, maualalo le saoasaoa o le ionization metal, ma maualalo le saoasaoa o le deposition. I le masini ufiufi o le magnetron sputtering, e fa'aopoopoina ai se masini arc discharge, lea e mafai ona fa'aogaina le tafe eletise maualuga i totonu o le arc plasma e gaosia e le arc discharge e fa'amama ai le workpiece, E mafai foi ona auai i le ufiufiina ma le auxiliary deposition.
Fa'aopoopo se puna eletise e fa'asa'oloto ai le arc i totonu o le masini ufiufi magnetron sputtering, lea e mafai ona avea ma puna arc la'ititi, puna arc fa'atafafā, po'o se puna arc cathode cylindrical. O le tafe eletise maualuga e gaosia e le puna arc cathode e mafai ona faia matafaioi nei i le faagasologa atoa o le ufiufi magnetron sputtering:
1. Fa'amamā le mea faigaluega. A'o le'i valiina, fa'aola le puna o le cathode arc, ma isi mea fa'apena, fa'a-ionize le kesi i le tafe o le arc electron, ma fa'amamā le mea faigaluega i le malosi maualalo ma le maualuga o le argon ions.
2. O le puna o le arc ma le sini pulea fa'amaneta e ufiufi fa'atasi. A fa'agaoioia le sini fa'amagnetron sputtering ma le glow discharge mo le ufiufi, e fa'agaoioia fo'i le puna o le arc cathode, ma e ufiufi fa'atasi puna ufiufi uma e lua. A eseese le tu'ufa'atasiga o le mea e fa'aaogaina ai le magnetron sputtering ma le mea e fa'aaogaina ai le puna o le arc, e mafai ona ufiufi ni vaega se tele o le ata tifaga, ma o le vaega tifaga e teuina e le puna o le arc cathode o se vaega e feso'ota'i i le ata tifaga e tele vaega.
3. O le puna o le cathode arc e maua ai le tafe maualuga o le eletise pe a auai i le ufiufi, faʻateleina ai le avanoa e fetoʻai ai ma le vaega o le ata uʻamea ua pisipisia ma kasa tali atu, faʻaleleia atili ai le fua faatatau o le teuina, fua faatatau o le ionization o uʻamea, ma faia se sao i le fesoasoani i le teuina.
O le puna o le cathode arc ua faʻatulagaina i totonu o le masini ufiufi magnetron sputtering e tuʻufaʻatasia ai se puna faʻamamā, puna ufiufi, ma le puna ionization, ma faia ai se sao lelei i le faʻaleleia atili o le lelei o le ufiufi magnetron sputtering e ala i le faʻaaogaina o le tafe o le arc electron i totonu o le arc plasma.
Taimi na lafoina ai: Iuni-21-2023