An jeneral, nou ka divize CVD an de kalite: youn se depo vapè yon sèl pwodwi sou yon substrat nan yon kouch epitaksyal monokristal, ki se CVD ki pi etwat; lòt la se depo fim mens sou yon substrat, ki gen ladan fim milti-pwodwi ak fim amorf. Selon diferan kalite gaz sous yo itilize, CVD ka divize an metòd transpò alojèn ak depo vapè chimik metal-òganik (MOCVD), premye a se alojèn kòm sous gaz, dezyèm lan se konpoze metal-òganik kòm sous gaz. Selon presyon ki nan chanm reyaksyon an, li ka divize an twa kalite prensipal: CVD presyon atmosferik (APCVD), CVD presyon ba (LPCVD) ak CVD ultra-wo vakyòm (UHV/CVD). CVD kapab tou itilize kòm yon metòd oksilyè amelyore enèji, e kounye a, metòd ki pi komen yo enkli CVD amelyore plasma (PECVD) ak CVD amelyore limyè (PCVD), elatriye. CVD se esansyèlman yon metòd depo faz gaz.
CVD se esansyèlman yon metòd fòmasyon fim kote yon sibstans faz gaz reyaji chimikman nan tanperati ki wo pou pwodui yon sibstans solid ki depoze sou yon substra. Espesyalman, alojèn metal temèt oswa konpoze òganik metal yo melanje ak yon gaz transpòtè tankou H, Ar, oswa N, epi answit transpòte inifòmman nan yon substra tanperati ki wo nan yon chanm reyaksyon pou fòme yon fim mens sou substra a atravè yon reyaksyon chimik. Kèlkeswa kalite CVD a, depo ka fèt avèk siksè dwe satisfè kondisyon debaz sa yo: Premyèman, nan tanperati depo a, reyaktif yo dwe gen yon presyon vapè ki ase wo; Dezyèmman, pwodwi reyaksyon an, anplis depo ki nesesè pou eta solid la, rès eta gaz la; Twazyèmman, depo a li menm ta dwe gen yon presyon vapè ki ase ba pou asire ke pwosesis reyaksyon depo a ka kenbe nan tout pwosesis substra chofe a; Katriyèmman, materyèl substra a transpòte inifòmman nan chanm reyaksyon an sou substra a, atravè reyaksyon chimik la pou fòme yon fim mens. Katriyèmman, presyon vapè materyèl substra a li menm ta dwe ase ba tou nan tanperati depo a.
–Atik sa a pibliye bymanifakti machin kouch vakyòmGuangdong Zhenhua
Dat piblikasyon: 4 me 2024