Kev hais lus dav dav, CVD tuaj yeem muab faib ua ob hom: ib qho yog nyob rau hauv ib qho khoom ntawm lub substrate vapor deposition ntawm ib leeg-crystal epitaxial txheej, uas yog nqaim CVD; Lwm qhov yog qhov tso tawm ntawm cov yeeb yaj kiab nyias ntawm cov substrate, suav nrog ntau cov khoom thiab amorphous films. Raws li qhov sib txawv ntawm cov khoom siv roj siv, CVD tuaj yeem muab faib ua halogen thauj txoj kev thiab hlau-organic chemical vapor deposition (MOCVD), yav dhau los rau halide ua cov pa roj, tom kawg rau hlau-organic tebchaw ua cov pa roj. Raws li lub siab nyob rau hauv cov tshuaj tiv thaiv chamber, nws yuav muab faib ua peb hom: atmospheric siab CVD (APCVD), tsis tshua muaj siab CVD (LPCVD) thiab ultra-high nqus CVD (UHV / CVD). CVD kuj yuav siv tau raws li ib tug zog-txhim kho pab txoj kev, thiab tam sim no cov uas muaj xws li cov ntshav CVDCV-enhance (plasma CVDPE) thiab lwm yam. CVD (PCVD), thiab lwm yam. CVD yog qhov tseem ceeb ntawm cov roj-theem deposition txoj kev.
CVD yog ib qho tseem ceeb ntawm txoj kev ua yeeb yaj kiab uas cov khoom siv roj-theem yog tshuaj lom neeg ntawm qhov kub thiab txias los tsim cov khoom lag luam uas tso rau ntawm lub substrate. Tshwj xeeb, tsis muaj zog hlau halides los yog hlau organic tebchaw yog tov nrog ib tug cab cab xws li H, Ar, los yog N, thiab ces uniformly thauj mus rau ib tug kub-kub substrate nyob rau hauv ib tug tshuaj tiv thaiv chamber los ua ib tug nyias zaj duab xis ntawm lub substrate los ntawm cov tshuaj tiv thaiv. Tsis muaj teeb meem dab tsi ntawm CVD, kev tso tawm tuaj yeem ua tiav yuav tsum ua raws li cov hauv qab no: Ua ntej, nyob rau hauv qhov kub thiab txias, cov reactants yuav tsum muaj lub siab txaus vapor siab; Thib ob, cov khoom siv tshuaj tiv thaiv, ntxiv rau qhov xav tau tso nyiaj rau cov khoom hauv lub xeev, qhov seem ntawm lub xeev gaseous; Thib peb, qhov tso nyiaj nws tus kheej yuav tsum muaj tsawg txaus vapor siab los xyuas kom meej tias cov txheej txheem tso tawm cov tshuaj tiv thaiv tuaj yeem khaws cia rau hauv tag nrho cov txheej txheem ntawm cov rhuab substrate; Plaub, cov khoom siv substrate yog uniformly thauj mus rau cov tshuaj tiv thaiv chamber ntawm lub substrate, los ntawm cov tshuaj tiv thaiv los ua ib tug nyias zaj duab xis. Plaub, lub vapor siab ntawm cov khoom siv substrate nws tus kheej kuj yuav tsum tsis tshua muaj txaus ntawm qhov kub ntawm deposition.
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Post lub sij hawm: May-04-2024