1. O/Arevestimento de evaporación ao baleiroO proceso inclúe a evaporación dos materiais da película, o transporte de átomos de vapor en alto baleiro e o proceso de nucleación e crecemento de átomos de vapor na superficie da peza.
2. O grao de baleiro de deposición do revestimento de evaporación ao baleiro é alto, xeralmente 10-510-3Pa. O percorrido libre das moléculas de gas é dunha orde de magnitude de 1 a 10 m, que é moito maior que a distancia desde a fonte de evaporación ata a peza de traballo; esta distancia chámase distancia de evaporación, xeralmente de 300 a 800 mm. As partículas de revestimento apenas chocan coas moléculas de gas e os átomos de vapor e alcanzan a peza de traballo.
3. A capa de revestimento de evaporación ao baleiro non está enrolada e os átomos de vapor van directamente á peza de traballo baixo alto baleiro. Só o lado que mira cara á fonte de evaporación da peza de traballo pode obter a capa de película, e o lateral e a parte traseira da peza de traballo apenas poden obter a capa de película, e a capa de película ten un revestimento deficiente.
4. A enerxía das partículas da capa de revestimento por evaporación ao baleiro é baixa e a enerxía que chega á peza de traballo é a enerxía térmica transportada pola evaporación. Dado que a peza de traballo non está polarizada durante o revestimento por evaporación ao baleiro, os átomos metálicos só dependen da calor de vaporización durante a evaporación, a temperatura de evaporación é de 1000~2000 °C e a enerxía transportada é equivalente a 0,1~0,2 eV, polo que a enerxía das partículas da película é baixa, a forza de unión entre a capa da película e a matriz é pequena e é difícil formar un revestimento composto.
5. A capa de revestimento por evaporación ao baleiro ten unha estrutura fina. O proceso de chapado por evaporación ao baleiro fórmase baixo alto baleiro e as partículas da película no vapor son basicamente a escala atómica, formando un núcleo fino na superficie da peza de traballo.
Data de publicación: 14 de xuño de 2023