1. Yangsalutan penyejatan vakumProses ini merangkumi penyejatan bahan filem, pengangkutan atom wap dalam vakum tinggi, dan proses nukleasi dan pertumbuhan atom wap pada permukaan bahan kerja.
2. Tahap vakum pemendapan salutan penyejatan vakum adalah tinggi, secara amnya 10-510-3Pa. Laluan bebas molekul gas adalah 1 ~ 10m magnitud, yang jauh lebih besar daripada jarak dari sumber penyejatan ke bahan kerja, jarak ini dipanggil jarak penyejatan, secara amnya 300 ~ 800mm. Zarah salutan hampir tidak berlanggar dengan molekul gas dan atom wap dan sampai ke bahan kerja.
3. Lapisan salutan penyejatan vakum tidak dililitkan, dan atom wap terus ke bahan kerja di bawah vakum tinggi. Hanya sisi yang menghadap sumber penyejatan pada bahan kerja yang boleh mendapatkan lapisan filem, dan sisi dan belakang bahan kerja hampir tidak dapat mendapatkan lapisan filem, dan lapisan filem mempunyai penyaduran yang lemah.
4. Tenaga zarah lapisan salutan penyejatan vakum adalah rendah, dan tenaga yang sampai ke bahan kerja adalah tenaga haba yang dibawa oleh penyejatan. Oleh kerana bahan kerja tidak berat sebelah semasa salutan penyejatan vakum, atom logam hanya bergantung pada haba pengewapan semasa penyejatan, suhu penyejatan ialah 1000~2000 °C, dan tenaga yang dibawa bersamaan dengan 0.1~0.2eV, jadi tenaga zarah filem adalah rendah, daya ikatan antara lapisan filem dan matriks adalah kecil, dan sukar untuk membentuk salutan sebatian.
5. Lapisan salutan penyejatan vakum mempunyai struktur yang halus. Proses penyaduran penyejatan vakum dibentuk di bawah vakum tinggi, dan zarah filem dalam wap pada dasarnya berskala atom, membentuk teras halus pada permukaan bahan kerja.
Masa siaran: 14 Jun 2023